ज़िरकोनियम टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
ज़िरकोनियम टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य विवरण
ज़िरकोनियम एक कठोर, चमकदार, चांदी की धातु सामग्री है, और टाइटेनियम सबसे अधिक इस्तेमाल किया जाने वाला सैन्य या नागरिक औद्योगिक धातु सामग्री है। ज़िरकोनियम टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य उच्च गुणवत्ता वाले मिश्रित पाउडर से बना है और पाउडर धातु विज्ञान प्रक्रिया के बाद, इसकी घनत्व और शुद्धता न केवल छिड़काव की गति को प्रभावित करती है, बल्कि फिल्म के विद्युत और ऑप्टिकल गुणों को भी प्रभावित करती है। बेशक, हमारी कंपनी द्वारा प्रदान किए गए जिरकोनियम टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य में उच्च घनत्व, उच्च कठोरता, मजबूत संक्षारण प्रतिरोध, उच्च आयामी सटीकता, उच्च-गुणवत्ता और टिकाऊ फिल्म, अच्छा प्रभाव प्रतिरोध और उच्च तापमान प्रतिरोध के फायदे हैं। ज़िरकोनियम टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य मुख्य रूप से इलेक्ट्रॉनिक सूचना उद्योग, ग्लास कोटिंग क्षेत्र, उच्च तापमान जंग प्रतिरोधी सामग्री, उच्च अंत सजावटी उत्पाद, टच स्क्रीन उद्योग और फोटोवोल्टिक उद्योग आदि में उपयोग किया जाता है।
ज़िरकोनियम टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य निर्दिष्टीकरण:
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सामग्री |
Ti10Zr90, Ti15Zr85, Ti30Zr70, आदि। |
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तकनीक |
सिंटरिंग, फोर्जिंग, एनीलिंग, रोलिंग, वैक्यूम मेल्टिंग, मशीनिंग |
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व्यास |
<400mm |
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मोटाई |
1-100मिमी |
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आकार |
Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1 मिमी) ट्यूब (रोटरी टारगेट, OD:20mm-160mm, मोटाई:2-20mm) |
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घनत्व |
4.7 ग्राम/सेमी3 |
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सतह |
पॉलिश, उज्ज्वल, रासायनिक सफाई, ब्लैक ऑक्साइड, आदि। |
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आकार |
प्लेट, वेफर, आयताकार, स्क्वायर, सर्किल, ट्यूब, स्टेप वेफर और ग्राहक के अनुरूप |
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मानक |
एएसटीएम बी 385, जीबी |
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प्रमाणीकरण |
आईएसओ 9001 |
ज़िरकोनियम टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य चित्र:


सामान्य प्रश्न
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