टाइटेनियम ज़िरकोनियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य
टाइटेनियम जिरकोनियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य विवरण
स्पटरिंग लक्ष्य प्रक्रिया संक्षारक वाष्प और आर्द्रता जैसी बहुत कठोर पर्यावरणीय परिस्थितियों में भी उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध की गारंटी देती है, और पतली फिल्मों का निर्माण करती है जो सटीक और मांग वाली आवेदन आवश्यकताओं को पूरा करती हैं, और मजबूत आसंजन और मजबूत उच्च प्रकाश संप्रेषण भी है। टाइटेनियम में वजन अनुपात में बहुत अधिक ताकत होती है और जिरकोनियम में उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध होता है। तो टाइटेनियम ज़िरकोनियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य में उनके उत्कृष्ट गुण शामिल हैं, जिनमें समान संरचना, अच्छी सतह की गुणवत्ता, सटीक आकार, बेहतर फिल्म बनाने का प्रदर्शन, लंबी सेवा जीवन और कम रखरखाव लागत के फायदे हैं। टाइटेनियम ज़िरकोनियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य उद्योग में मल्टी-आर्क आयन वैक्यूम कोटिंग या मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग पीवीडी में व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है, और इसे पहनने के लिए प्रतिरोधी सामग्री, सजावटी कोटिंग्स या आवश्यकताओं के अनुसार कार्यात्मक कोटिंग्स के रूप में उपयोग किया जा सकता है।
टाइटेनियम ज़िरकोनियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य निर्दिष्टीकरण:
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सामग्री |
Ti10Zr90, Ti15Zr85, Ti30Zr70, आदि। |
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तकनीक |
सिंटरिंग, फोर्जिंग, एनीलिंग, रोलिंग, वैक्यूम मेल्टिंग, मशीनिंग |
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व्यास |
<400mm |
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मोटाई |
1-100मिमी |
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आकार |
Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1 मिमी) ट्यूब (रोटरी टारगेट, OD:20mm-160mm, मोटाई:2-20mm) |
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घनत्व |
4.7 ग्राम/सेमी3 |
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सतह |
पॉलिश, उज्ज्वल, रासायनिक सफाई, ब्लैक ऑक्साइड, आदि। |
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आकार |
प्लेट, वेफर, आयताकार, स्क्वायर, सर्किल, ट्यूब, स्टेप वेफर और ग्राहक के अनुरूप |
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मानक |
एएसटीएम बी 385, जीबी |
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प्रमाणीकरण |
आईएसओ 9001 |
टाइटेनियम जिरकोनियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य चित्र:


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