मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य विवरण

मोलिब्डेनम स्पटरिंग टारगेट एक बहुत ही पर्यावरण के अनुकूल स्पटरिंग सामग्री है। इसकी शुद्धता सामान्यतः 99.95 प्रतिशत से अधिक होती है। इसमें उच्च शक्ति, अच्छी विद्युत और तापीय चालकता, कम तापीय विस्तार गुणांक, समान आंतरिक संरचना, अच्छा संक्षारण प्रतिरोध और स्थायित्व है। मजबूत और अन्य उत्कृष्ट विशेषताएं। मोलिब्डेनम स्पटरिंग टारगेट की सतह को उज्ज्वल, पॉलिश और लुढ़का हुआ कहा जा सकता है, और आकार गोल, आयताकार और ट्यूबलर हो सकता है। मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य अक्सर वैक्यूम कोटिंग उद्योग, एयरोस्पेस उद्योग, समुद्री मोटर वाहन उद्योग, उपकरण उद्योग और फोटोवोल्टिक उद्योग में उपयोग किए जाते हैं।

स्पटरिंग टारगेट क्या है?

स्पटरिंग टार्गेट्स का विकास 20वीं शताब्दी में एक पतली फिल्म निक्षेपण तकनीक के रूप में हुआ, जो भौतिक वाष्प जमाव तंत्र की एक प्राचीन प्रक्रिया है, लेकिन आधुनिक तकनीक और निर्माण में भी इसके कई उपयोग हैं। प्रक्रिया सब्सट्रेट (या लेपित होने वाली अन्य वस्तु) को दो चुम्बकों वाले निर्वात कक्ष में रखकर शुरू होती है। एक नियंत्रित गैस, जैसे आर्गन, को कक्ष में पेश करने के बाद, परमाणुओं को एक चुंबक के साथ सब्सट्रेट से खींचा जाता है। फिर ये परमाणु गैसीय अवस्था में एक-दूसरे से टकराते हैं, एक प्लाज्मा में संघनित होते हैं, और एक सब्सट्रेट पर एक पतली फिल्म में सूख जाते हैं, अंततः विभिन्न उपकरणों पर कोटिंग के लिए उपयुक्त एक पतली, टिकाऊ कोटिंग बनाते हैं। धातु की रासायनिक शुद्धता स्पटरिंग लक्ष्यों के निर्माण की कुंजी है। शुद्धता जितनी अधिक होगी, जमा की गई फिल्म का प्रदर्शन उतना ही बेहतर होगा।

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्यविशेष विवरण:

मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य चित्र:

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