टाइटेनियम-सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य
टाइटेनियम-सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य विवरण
टाइटेनियम-सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य उत्कृष्ट गुणों के साथ नाइट्राइड हार्ड सामग्री परतें प्रदान कर सकते हैं, क्योंकि सिलिकॉन उच्च ऑक्सीकरण प्रतिरोध की गारंटी देता है, जबकि टाइटेनियम विशेष कठोरता और पहनने के प्रतिरोध प्रदान करता है। इन दो तत्वों के संयोजन का उपयोग बहुत अधिक तापमान पर किया जा सकता है। नीचे पहनने के लिए प्रतिरोधी है। टाइटेनियम-सिलिकॉन स्पटरिंग टार्गेट मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग तकनीक में एक बहुत ही सामान्य रूप से इस्तेमाल किया जाने वाला मिश्र धातु लक्ष्य है, जिसे कास्टिंग प्रक्रिया द्वारा डिस्क-आकार, ट्यूबलर और प्लेट-आकार के लक्ष्यों में बनाया जा सकता है। इसका मुख्य उद्देश्य सख्त और पहनने के लिए प्रतिरोधी कोटिंग्स के साथ मोल्ड्स और टूल्स को कोट करना है, जो कार्य कुशलता में सुधार कर सकता है और प्रसंस्करण उपकरणों के सेवा जीवन को लम्बा खींच सकता है। टाइटेनियम-सिलिकॉन स्पटरिंग टारगेट में ऑटोमोटिव ग्लास कोटिंग, डिस्प्ले कोटिंग उद्योग, सेमीकंडक्टर उद्योग, इलेक्ट्रॉनिक इंजीनियरिंग, धातु प्रसंस्करण और सजावट उद्योग आदि के लिए उपयुक्त उच्च यांत्रिक शक्ति, अच्छे पहनने के प्रतिरोध, मजबूत संक्षारण प्रतिरोध और अच्छे प्रभाव प्रतिरोध की विशेषताएं हैं।
टाइटेनियम-सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य विशेष विवरण:
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श्रेणी |
85:15 प्रतिशत पर, 80:20 प्रतिशत पर, 75:25 प्रतिशत पर, 70:30 प्रतिशत पर, आदि। |
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तकनीक |
हॉट आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, वेल्डिंग, सिंटरिंग, फोर्जिंग, एनीलिंग |
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पवित्रता |
99.9 प्रतिशत -99.99 प्रतिशत |
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घनत्व |
4.37 ग्राम/सेमी3 |
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मोटाई |
3मिमी-30मिमी |
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लंबाई |
10मिमी-2000मिमी |
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गोलाकार व्यास |
50-100मिमी |
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प्रकार |
प्लानर, ट्यूब, डिस्क, बेलनाकार |
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सतह |
पॉलिश, क्षार सफाई, पीस, ब्लैक ऑक्साइड, आदि। |
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प्रमाणीकरण |
आईएसओ 9001 |
टाइटेनियम-सिलिकॉन स्पटरिंग लक्ष्य चित्र:


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