निकल क्रोमियम रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य

निकल क्रोमियम रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य विवरण

निकेल क्रोमियम रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य आमतौर पर तीन-परत इलेक्ट्रोलिसिस प्रक्रिया के साथ-साथ 99.5 प्रतिशत से 99.99 प्रतिशत तक की शुद्धता के साथ पीसने, लैथिंग, रोलिंग और कटिंग जैसे यांत्रिक प्रसंस्करण की एक श्रृंखला के बाद गलाने और कास्टिंग द्वारा बनाए जाते हैं। निकेल क्रोमियम रोटरी स्पटरिंग टारगेट द्वारा स्पटर की गई पतली फिल्मों में कम तापमान पर निर्भरता, उच्च प्रतिरोधकता, उच्च संवेदनशीलता गुणांक, उच्च विद्युत और तापीय चालकता, उत्कृष्ट ऑक्सीकरण प्रतिरोध, समान माइक्रोस्ट्रक्चर, छिद्रों के बिना चिकनी सतह और अच्छा स्थायित्व आदि होते हैं। अन्य मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्यों की तुलना में , इसमें बेहतर भौतिक और रासायनिक गुण हैं। PVD या CVD कोटिंग उद्योग में, निकेल क्रोमियम रोटरी स्पटरिंग टार्गेट्स और इसकी फिल्मों का व्यापक रूप से सतह को मजबूत बनाने वाली फिल्मों में उपयोग किया जाता है जैसे पहनने के प्रतिरोध, पहनने में कमी, गर्मी प्रतिरोध और संक्षारण प्रतिरोध, साथ ही कम-उत्सर्जन ग्लास, माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक, चुंबकीय रिकॉर्डिंग , अर्धचालक और पतली फिल्म प्रतिरोधक और अन्य उच्च अंत प्रौद्योगिकी उद्योग।

निकल क्रोमियम रोटरी स्पटरिंग लक्ष्य विशेष विवरण:

निकेल क्रोमियम रोटरी स्पटरिंग टारगेट पिक्चर्स:

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