शुद्ध टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
शुद्ध टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य विशेषताएं:
अन्य लक्ष्यों की तुलना में, सिरेमिक लक्ष्यों की तुलना में धातु लक्ष्य उच्च बाजार मांग में हैं, उनका प्रदर्शन अधिक है, और सेवा जीवन लंबा है। स्पटरिंग लक्ष्य के लिए, धातु की रासायनिक शुद्धता जितनी अधिक होगी, उससे बनी फिल्म की चालकता और पहनने के प्रतिरोध में सुधार होगा। शुद्ध टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य में उच्च शुद्धता, अच्छी सतह पॉलिश, अच्छी विद्युत और तापीय चालकता, अच्छा प्रभाव प्रतिरोध, अच्छा पहनने और संक्षारण प्रतिरोध, उच्च तन्यता ताकत, अच्छा लचीलापन है।
शुद्ध टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य का अनुप्रयोग:
1. सजावटी कोटिंग सामग्री: लंबे समय तक अच्छी चमक बनाए रख सकती है और मानव त्वचा के साथ उच्च संबंध रखती है, जैसे सजावट सामग्री, दैनिक आवश्यकताएं या पहनने वाले उत्पाद (घड़ियां, चश्मा), हार्डवेयर उपकरण (चाकू या मोल्ड काटना), ग्लास कोटिंग्स (ऑटोमोबाइल) रियरव्यू मिरर)
2. जैविक प्रत्यारोपण सामग्री: टाइटेनियम एक गैर-चुंबकीय धातु, गैर विषैले और अत्यधिक जैव-संगत है, जैसे हड्डी निर्धारण उपकरण या दंत
3. गेट्टर सामग्री: टाइटेनियम में सक्रिय गैसों के लिए एक मजबूत सोखने की क्षमता है, और इसका उपयोग अल्ट्रा-हाई वैक्यूम पंप सिस्टम और स्पटर आयन पंप में किया जा सकता है।
4. उच्च तकनीक वाली इलेक्ट्रॉनिक सूचना सामग्री: एकीकृत सर्किट और फ्लैट पैनल डिस्प्ले के लिए उच्च शुद्धता वाले टाइटेनियम की खपत में वृद्धि हुई है
शुद्ध टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य निर्दिष्टीकरण:
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श्रेणी |
ग्रेड 1, ग्रेड 2 |
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तकनीक |
सिंटरिंग, फोर्जिंग, एनीलिंग, रोलिंग, वैक्यूम मेल्टिंग, मशीनिंग |
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पवित्रता |
99.9 प्रतिशत -99.995 प्रतिशत |
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व्यास |
<350mm |
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मोटाई |
1-100मिमी |
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आकार |
Rectangle (Length 1800mm, Width 400mm Thickness>1 मिमी) ट्यूब (रोटरी टारगेट, OD:20mm-160mm, मोटाई:2-20mm) |
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घनत्व |
4.5 ग्राम/सेमी3 |
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सतह |
पॉलिश, उज्ज्वल, रासायनिक सफाई, ब्लैक ऑक्साइड, आदि। |
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आकार |
डिस्क, प्लेट, आयताकार, वर्ग, स्तंभ लक्ष्य, |
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मानक |
एएसटीएम बी385, जीबी, जेआईएस |
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प्रमाणीकरण |
ISO9001, ISO14001 |
शुद्ध टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य चित्र:


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