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निकल स्पटरिंग लक्ष्य
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निकल स्पटरिंग लक्ष्य

निकल स्पटरिंग लक्ष्य

निकल स्पटरिंग लक्ष्य विवरण निकेल एक चांदी-सफेद धातु है जिसमें अच्छी फेरोमैग्नेटिज्म और प्लास्टिसिटी होती है, जिसका उपयोग मुख्य रूप से मिश्र धातु, स्टेनलेस स्टील, सिक्कों और बैटरी के निर्माण में किया जाता है। निकेल में मजबूत एंटी-ऑक्सीकरण और एंटी-जंग गुण होते हैं, और यह घने ऑक्साइड का निर्माण कर सकता है। धातु पर फिल्म...
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Product Details ofनिकल स्पटरिंग लक्ष्य

निकल स्पटरिंग लक्ष्य विवरण:

निकेल एक चांदी-सफेद धातु है जिसमें अच्छी फेरोमैग्नेटिज्म और प्लास्टिसिटी होती है, जिसका उपयोग मुख्य रूप से मिश्र धातु, स्टेनलेस स्टील, सिक्कों और बैटरी के निर्माण में किया जाता है। निकेल में मजबूत एंटी-ऑक्सीडेशन और एंटी-जंग गुण होते हैं, और धातु पर घने ऑक्साइड फिल्म बना सकते हैं। कमरे के तापमान पर या आर्द्र वातावरण में सतह, जिसका अर्थ यह भी है कि इसे उच्च गुणवत्ता वाली कोटिंग फिल्मों का उत्पादन करने के लिए निकल स्पटरिंग लक्ष्य में बनाया जा सकता है। वैक्यूम में वाष्पित होने पर, निकल सिरेमिक सतहों पर घने, संक्षारण प्रतिरोधी सजावटी कोटिंग बना सकता है या सर्किट डिवाइस निर्माण में मिलाप परतें।

निकल स्पटरिंग लक्ष्य आवेदन:

ईडीएक्स अनुप्रयोगों और बीएसई इमेजिंग के लिए निकल एक अच्छा वैकल्पिक स्पटर कोटिंग सामग्री है। निकल स्पटरिंग लक्ष्य की स्पटरिंग दर और गुणवत्ता बहुत अच्छी है, और वे विभिन्न क्षेत्रों में व्यापक रूप से उपयोग की जाती हैं, जैसे डेटा स्टोरेज उद्योग, इलेक्ट्रॉनिक्स, अर्धचालक उद्योग, पतली फिल्म बयान (सीवीडी और पीवीडी), कैपेसिटर ढांकता हुआ फिल्म, फोटोकॉन्डक्टिव फिल्म, ऑप्टिकल संचार, चुंबकीय और स्मृति तत्व, कांच कोटिंग्स ((ऑटोमोबाइल, फर्नीचर और निर्माण), आदि।


निकल स्पटरिंग लक्ष्यविशेष विवरण:

पवित्रता

99.99(4N),99.995(4N5)

तकनीक

हॉट आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, सिंटरिंग, फोर्जिंग, एनीलिंग

आकार

101.6-3.175mm

मोटाई

1 मिमी से 10 मिमी

व्यास

10 मिमी से 360 मिमी

गलनांक

1453 डिग्री

घनत्व

8.91 ग्राम/सेमी3

आकार

सिलेंडर, डिस्क, ट्यूब, प्लेट, अंगूठी

सतह

चमकाने, क्षार सफाई, पीस, ब्लैक ऑक्साइड, आदि।

मानक:

एएसटीएम, जीबी / टी

प्रमाणीकरण

आईएसओ9001:2008


निकेल स्पटरिंग लक्ष्य चित्र:

Nickel(Ni) Sputtering Target

Nickel Sputtering Target Ni

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