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टाइटेनियम एल्युमिनियम (Ti-Al) मिश्रधातु स्पटरिंग लक्ष्य
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टाइटेनियम एल्युमिनियम (Ti-Al) मिश्रधातु स्पटरिंग लक्ष्य

टाइटेनियम एल्युमिनियम (Ti-Al) मिश्रधातु स्पटरिंग लक्ष्य

टाइटेनियम एल्यूमीनियम (टीआई-अल) मिश्र धातु स्पटर लक्ष्य विवरण स्पटरिंग लक्ष्य का मुख्य कार्य वर्कपीस पर पहनने के प्रतिरोध और सेवा जीवन को बेहतर बनाने के लिए वर्कपीस पर एक घनी फिल्म जमा करना है। टाइटेनियम एल्युमिनियम (Ti-Al) एलॉय स्पटरिंग तैयार करने की दो विधियाँ हैं...
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Product Details ofटाइटेनियम एल्युमिनियम (Ti-Al) मिश्रधातु स्पटरिंग लक्ष्य

टाइटेनियम एल्युमिनियम (Ti-Al) मिश्रधातु स्पटर लक्ष्य विवरण

स्पटरिंग टारगेट का मुख्य कार्य वर्कपीस के पहनने के प्रतिरोध और सेवा जीवन को बेहतर बनाने के लिए वर्कपीस पर एक घनी फिल्म जमा करना है। टाइटेनियम एल्युमीनियम (Ti-Al) एलॉय स्पटरिंग टारगेट तैयार करने की दो विधियाँ हैं: हॉट आइसोस्टैटिक प्रेसिंग और स्मेल्टिंग। पूर्व उच्च घनत्व और शक्ति का पीछा करता है, जबकि बाद वाला उच्च शुद्धता प्राप्त कर सकता है, और विभिन्न विनिर्माण प्रक्रियाओं को विभिन्न अनुप्रयोग परिदृश्यों के अनुसार चुना जा सकता है। टाइटेनियम एल्युमिनियम (Ti-Al) मिश्रधातु स्पटरिंग लक्ष्य विभिन्न धातुकर्म उपकरण कोटिंग्स, फ्लैट पैनल डिस्प्ले कोटिंग्स (जैसे घड़ियाँ, मोबाइल फोन और कंप्यूटर) और सजावटी कोटिंग्स के लिए बहुत उपयुक्त हैं, और आमतौर पर आयन स्पटरिंग क्षेत्र और इलेक्ट्रॉनिक्स में भी उपयोग किए जाते हैं। उद्योग।

टाइटेनियम एल्युमिनियम (Ti-Al) मिश्रधातु स्पटर के गुण लक्ष्य:

1. छोटे दाने का आकार और अधिक समान सूक्ष्म आंतरिक संरचना

2. उच्च गुणवत्ता, उच्च शुद्धता, समान संरचना, लंबी सेवा जीवन, अच्छा संक्षारण प्रतिरोध, उच्च तापीय चालकता और उच्च लागत प्रदर्शन

3. यह उपकरण को उच्च फ़ीड दर, बेहतर कटिंग प्रदर्शन, लंबी सेवा जीवन और उच्च धातु हटाने की दर प्राप्त करने में मदद कर सकता है

4. अच्छी कठोरता, उच्च चमक, संक्षारण प्रतिरोध, अच्छा फीका प्रतिरोध और टिकाऊ फिल्म जमा कर सकते हैं


टाइटेनियम एल्युमिनियम (Ti-Al) मिश्रधातु स्पटर लक्ष्यविशेष विवरण:

श्रेणी

एलटीआई 25/75, एलटीआई 30/70, एलटीआई 40/60, आदि।

तकनीक

हॉट आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, सिंटरिंग, फोर्जिंग, एनीलिंग

पवित्रता

99.5-99.9 प्रतिशत

टाइप

प्लानर स्पटरिंग टारगेट, रोटरी स्पटरिंग टारगेट, एकर कैथोड।

मोटाई

3मिमी-30मिमी

लंबाई

10मिमी-2000मिमी

व्यास

300 मिमी से कम या इसके बराबर

घनत्व

3.4g/सेमी3

आकार

डिस्क, प्लेट, कॉलम, स्टेप, आयत, ट्यूब

सतह

पॉलिश, क्षार सफाई, पीस, ब्लैक ऑक्साइड, आदि।

डिलीवरी का समय

15-20 दिन

प्रमाणीकरण

आईएसओ 9001


टाइटेनियम एल्यूमिनियम (टीआई-अल) मिश्र धातु स्पटर लक्ष्य चित्र:

Titanium Aluminum Alloy Sputtering Target

Titanium Aluminum Sputter Target

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