उच्च शुद्धता टाइटेनियम लक्ष्य
उच्च शुद्धता टाइटेनियम लक्ष्य विवरण
टाइटेनियम एक पैरामैग्नेटिक दुर्दम्य धातु है जिसमें मजबूत कठोरता और उच्च शक्ति होती है, खासकर ऑक्सीजन मुक्त वातावरण में। लक्ष्यों के लिए, धातु की रासायनिक शुद्धता जितनी अधिक होगी, उससे बनी फिल्म की चालकता उतनी ही बेहतर होगी। उच्च शुद्धता वाले टाइटेनियम लक्ष्य अक्सर पाउडर धातु विज्ञान तकनीक का उपयोग करके बनाए जाते हैं। इसमें उच्च शुद्धता, उच्च शक्ति और कठोरता, उच्च विशिष्ट शक्ति, संक्षारण प्रतिरोध, प्रभाव प्रतिरोध, अच्छा उच्च तापमान स्थिरता, पहनने के प्रतिरोध, स्थायित्व और उच्च कोटिंग गुणवत्ता जैसे उत्कृष्ट गुण हैं। उच्च शुद्धता वाले टाइटेनियम लक्ष्य का उपयोग विभिन्न भौतिक वाष्प जमाव और स्पटरिंग प्रक्रियाओं में धातु के वाष्पीकरण और जमाव के लिए किया जाता है। इसका उपयोग ऑप्टिकल कोटिंग्स, वैक्यूम कोटिंग्स, ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक उपकरणों, उच्च तापमान प्रसंस्करण उपकरण, रासायनिक उत्प्रेरक और चिकित्सा उपकरणों में अच्छी तरह से किया जा सकता है। उदाहरण के लिए, सेमीकंडक्टर उद्योग में, टाइटेनियम टारगेट का उपयोग फोटोडायोड, ट्रांजिस्टर, रिसीवर या ट्रांसमीटर जैसे इलेक्ट्रॉनिक घटकों के निर्माण के लिए किया जा सकता है।
उच्च शुद्धता टाइटेनियम लक्ष्य विशिष्टता:
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सामग्री |
जीआर1-4 |
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तकनीक |
सिंटरिंग, फोर्जिंग, एनीलिंग, रोलिंग, वैक्यूम मेल्टिंग, मशीनिंग |
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पवित्रता |
99.9%-99.995% |
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व्यास |
10-1000मिमी |
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मोटाई |
1-100मिमी |
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घनत्व |
4.5 ग्राम/सेमी3 |
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सतह |
पॉलिश |
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आकार |
डिस्क,प्लेट,आयताकार,वर्ग,स्तंभ लक्ष्य, |
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मानक |
एएसटीएम बी348, जीबी, जेआईएस |
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प्रमाणीकरण |
ISO9001, ISO14001 |
उच्च शुद्धता टाइटेनियम लक्ष्य चित्र:


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