क्रोमियम प्लानर स्पटरिंग लक्ष्य

क्रोमियम प्लानर स्पटरिंग लक्ष्य सुविधाएँ और अनुप्रयोग

उच्च तापमान गलाने, शोधन और इलेक्ट्रोलिसिस जैसी प्रक्रियाओं की एक श्रृंखला द्वारा मूल क्रोमियम तत्व को शुद्ध करने की आवश्यकता होती है, और फिर शुद्ध क्रोमियम सामग्री को थर्मल प्रसंस्करण द्वारा आवश्यक लक्ष्य आकार और आकार में संसाधित किया जाता है। क्रोमियम प्लानर स्पटरिंग टारगेट आमतौर पर उच्च शुद्धता वाले क्रोमियम पाउडर से बना होता है। यह अक्सर सतह कोटिंग संशोधन प्रक्रिया के वाष्पीकरण स्रोत के रूप में उपयोग किया जाता है। यह व्यापक रूप से ताले, हार्डवेयर उपकरण, लैंप, यांत्रिक चाकू, उच्च तकनीक वाले उत्पाद के गोले और ऑटोमोबाइल और मोटरसाइकिल भागों में उपयोग किया जा सकता है। इंतज़ार। क्रोमियम में एक उच्च गलनांक और उच्च ऑक्सीकरण प्रतिरोध है, जो क्रोमियम प्लानर स्पटरिंग लक्ष्य को उच्च तापमान वातावरण में उत्कृष्ट प्रदर्शन बनाए रखने में सक्षम बनाता है, इसलिए यह महत्वपूर्ण उपकरणों के सेवा जीवन को बढ़ाने के लिए कमजोर और महत्वपूर्ण भागों पर क्रोमियम कोटिंग्स के लिए बहुत उपयुक्त है। क्रोमियम प्लानर स्पटरिंग लक्ष्य का उपयोग फोटोवोल्टिक सेल निर्माण, मोटर वाहन उद्योग, एयरोस्पेस उद्योग और इलेक्ट्रॉनिक घटकों, डिस्प्ले और माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक उपकरणों में भौतिक निक्षेपण पतली फिल्म प्रौद्योगिकी के लिए भी किया जा सकता है।

क्रोमियम प्लानर स्पटरिंग लक्ष्य निर्दिष्टीकरण:

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