इरिडियम स्पटरिंग लक्ष्य

इरिडियम स्पटरिंग लक्ष्य विवरण

इरिडियम, एक दुर्लभ, कठोर, चमकदार, भंगुर, बहुत सघन प्लेटिनम जैसी धातु है, जो किसी भी एसिड द्वारा हमले का विरोध करने के लिए जानी जाने वाली सबसे संक्षारण प्रतिरोधी संक्रमण धातु सामग्री है। इरिडियम स्पटरिंग लक्ष्य मुख्य रूप से पाउडर धातु विज्ञान प्रक्रिया और गलाने की विधि द्वारा डाला जाता है। इसमें धातु इरिडियम के समान भौतिक और रासायनिक गुण हैं, जैसे उच्च घनत्व, उच्च शक्ति, अच्छी गर्मी प्रतिरोध, मजबूत चालकता, उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध और लंबी सेवा जीवन। इंतज़ार। इरिडियम स्पटरिंग लक्ष्य अक्सर पतली फिल्म जमाव में उपयोग किया जाता है, आमतौर पर ईंधन कोशिकाओं, सजावट, अर्धचालक, डिस्प्ले, एलईडी और फोटोवोल्टिक उपकरणों, ग्लास कोटिंग आदि में। इरिडियम स्पटरिंग टारगेट इरिडियम फिल्म की एक परत को अच्छी चमक और गहनों पर उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध के साथ इलेक्ट्रोप्लेट कर सकता है, ताकि इसमें बेहतर चमक और सजावट हो, और गहनों को प्रभावी ढंग से लुप्त होने से रोक सके और स्थायित्व और स्थायित्व में सुधार कर सके।

इरिडियम स्पटरिंग लक्ष्य निर्दिष्टीकरण:

इरिडियम स्पटरिंग लक्ष्य चित्र:

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