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इरिडियम स्पटर लक्ष्य
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इरिडियम स्पटर लक्ष्य

इरिडियम स्पटर लक्ष्य

इरिडियम स्पटर टारगेट विवरण इरिडियम एक धातु है जो उच्च तापमान और दबाव के तहत मजबूत संक्षारण प्रतिरोध बनाए रखता है, और अक्सर क्लोरीन उत्पादन, उच्च-प्रदर्शन स्पार्क प्लग, पुन: क्रिस्टलीकरण क्रूसिबल और थर्मोइलेक्ट्रिक के लिए इलेक्ट्रोड सामग्री का निर्माण करने के लिए उपयोग किया जाता है ...
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Product Details ofइरिडियम स्पटर लक्ष्य

इरिडियम स्पटर लक्ष्य विवरण

इरिडियम एक धातु है जो उच्च तापमान और दबाव के तहत मजबूत संक्षारण प्रतिरोध बनाए रखता है, और अक्सर क्लोरीन उत्पादन, उच्च-प्रदर्शन स्पार्क प्लग, पुन: क्रिस्टलीकरण क्रूसिबल और थर्मोइलेक्ट्रिक जनरेटर के लिए इलेक्ट्रोड सामग्री का निर्माण करने के लिए उपयोग किया जाता है। इरिडियम स्पटर टारगेट को पिघलाया जाता है, रोल किया जाता है, कास्ट किया जाता है, रोल किया जाता है और लंबाई में काटा जाता है। इसमें स्थिर रासायनिक गुण, उच्च पहनने के प्रतिरोध, अच्छा प्रभाव प्रतिरोध, उत्कृष्ट ऑक्सीकरण प्रतिरोध, उच्च तापमान प्रतिरोध, उच्च कोटिंग गुणवत्ता और स्थायित्व है। अच्छा प्रदर्शन और अच्छी विद्युत चालकता। इरिडियम स्पटर टारगेट द्वारा स्पटर की गई पतली फिल्मों को कार्यात्मक कोटिंग्स और सजावटी कोटिंग्स के रूप में इस्तेमाल किया जा सकता है, और उनके रंग, चमक, संक्षारण प्रतिरोध और जंग प्रतिरोध को बेहतर बनाने के लिए उपकरणों और गहनों की सतह पर चढ़ाया जा सकता है। इरिडियम स्पटर टारगेट मुख्य रूप से इलेक्ट्रॉनिक सूचना उद्योग, ग्लास कोटिंग क्षेत्र, पहनने के लिए प्रतिरोधी सामग्री, उच्च तापमान प्रसंस्करण उद्योग, हार्डवेयर उपकरण निर्माण, उच्च अंत सजावटी उत्पादों और अन्य उद्योगों में उपयोग किया जाता है।

इरिडियम स्पटर लक्ष्य निर्दिष्टीकरण:

सामग्री

इरिडियम

पवित्रता

99.95 प्रतिशत

तकनीक

एनीलेल्ड, रोलिंग, सिंटरिंग, वेल्डिंग, पंचिंग, फोर्जिंग। स्मेल्टिंग, कैलेंडरिंग

व्यास

0.2मिमी-100मिमी

मोटाई

1 मिमी

लंबाई

600 मिमी से कम या इसके बराबर

घनत्व

22.42 ग्राम/सेमी3

गलनांक

2410 डिग्री

आकार

डिस्क, आयत, स्टेप, प्लेट्स, शीट्स, रॉड्स, कस्टम-मेड

सतह

काला, एसिड अचार, क्षारीय सफाई, पॉलिश, उज्ज्वल

मानक

एएसटीएम, जीबी

प्रमाणीकरण

आईएसओ 9001

इरिडियम स्पटर लक्ष्य चित्र:

China Iridium Sputtering Target

Iridium Round Sputtering Target

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