टाइटेनियम सिलिकॉन स्पटर गोल लक्ष्य
टाइटेनियम सिलिकॉन स्पटर गोल लक्ष्य सुविधाएँ और अनुप्रयोग
स्पटरिंग प्रक्रिया (कोटिंग प्रक्रिया) के लिए एक आवश्यक सामग्री के रूप में, धातु स्पटरिंग लक्ष्य आमतौर पर उच्च यांत्रिक गुणों और उच्च स्थायित्व वाली सामग्रियों से बने होते हैं। टाइटेनियम सिलिकॉन स्पटर राउंड टारगेट में सिलिकॉन और टाइटेनियम के सभी उत्कृष्ट गुण होते हैं, जैसे उच्च कठोरता और शक्ति, स्थिर रासायनिक गुण, मजबूत उच्च तापमान प्रतिरोध, अच्छा पृथक्करण प्रतिरोध, मजबूत थर्मल शॉक प्रतिरोध, अच्छा पहनने का प्रतिरोध, लंबी सेवा जीवन, उच्च मानव आत्मीयता, अच्छी सतह खत्म और ठीक और स्थिर अनाज संरचना। टाइटेनियम सिलिकॉन स्पटर राउंड टार्गेट्स द्वारा स्पटर किए गए कोटिंग्स उच्च-जंग, उच्च-कटाई और अत्यधिक उच्च तापमान वाले वातावरण में उपयोग किए जाने वाले उपकरणों और घटकों की रक्षा कर सकते हैं, और धातु गलाने, अग्नि सुरक्षा, उच्च तापमान उद्योगों, एयरोस्पेस, निर्माण में अनुप्रयोगों के लिए बहुत उपयुक्त हैं। , इलेक्ट्रॉनिक इंजीनियरिंग, मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग प्रक्रिया और ग्लास कोटिंग उद्योग और अन्य क्षेत्र।
टाइटेनियम सिलिकॉन स्पटर गोल लक्ष्य निर्दिष्टीकरण:
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रासायनिक घटक (प्रतिशत में) |
Ti85Si15 |
Ti80Si20 |
Ti75Si25 |
Ti70Si30 |
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पवित्रता (प्रतिशत) |
99.8 |
99.8 |
99.8 |
99.8 |
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घनत्व (जी / सेमी 3) |
4.4 |
4.35 |
4.3 |
4.17 |
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अनाज आकार (μm) |
100 से कम या इसके बराबर |
100 से कम या इसके बराबर |
100 से कम या इसके बराबर |
100 से कम या इसके बराबर |
|
ताप चालकता (W/m.K) |
18.5 |
20 |
22 |
23 |
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विशिष्टता आयाम (मिमी) |
प्लानर लक्ष्य:
1500*500 से कम या इसके बराबर |
प्लानर लक्ष्य:
1500*500 से कम या इसके बराबर |
प्लानर लक्ष्य:
1500*500 से कम या इसके बराबर |
प्लानर लक्ष्य:
1500*500 से कम या इसके बराबर |
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श्रेणी |
Ti85Si15, Ti80Si20, Ti70Si30, आदि। |
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तकनीक |
हॉट आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, वेल्डिंग, सिंटरिंग, फोर्जिंग, एनीलिंग |
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मोटाई |
3मिमी-30मिमी |
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लंबाई |
10मिमी-2000मिमी |
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गोलाकार व्यास |
50-100मिमी |
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प्रकार |
प्लानर, ट्यूब, डिस्क, बेलनाकार |
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सतह |
पॉलिश, क्षार सफाई, पीस, ब्लैक ऑक्साइड, आदि। |
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प्रमाणीकरण |
आईएसओ 9001 |
टाइटेनियम सिलिकॉन धूम गोल लक्ष्य चित्र:


सामान्य प्रश्न
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