इरिडियम लक्ष्य
शुद्धता:99.99%(4N) से अधिक या उसके बराबर
घनत्व:22.56 ग्राम/सेमी³
व्यास:Φ 20 मिमी से अधिक या उसके बराबर
मोटाई:1-15 मिमी या अनुकूलित
चौड़ाई:10-150 मिमी
लंबाई:10-300 मिमी
गलनांक:चौराहे पर
सतह:पॉलिशिंग रा 0.8μm से कम या उसके बराबर
मानक:एएसटीएम/जीबी
MOQ:2PCS
डिलीवरी का समय:25-30 दिन
प्रमाणीकरण:आईएसओ 9001
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Product Details ofइरिडियम लक्ष्य
सिंहावलोकन
इरिडियम टारगेट उच्च शुद्धता वाले इरिडियम धातु से बना एक स्पटरिंग स्रोत है, जिसके कोर का उपयोग किया जाता हैभौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी)अर्धचालक, एयरोस्पेस, उत्प्रेरक प्रसंस्करण, ऑप्टिकल उपकरणों और अन्य क्षेत्रों में अनुप्रयोगों के लिए उच्च तापमान, संक्षारण प्रतिरोधी और अत्यधिक स्थिर कीमती धातु फिल्में तैयार करना। FANMETAL के पास उत्पादन और निर्यात में 20 से अधिक वर्षों का अनुभव हैउत्कृष्ट धातु लक्ष्य. यदि आप विस्तृत कीमत जानना चाहते हैं, तो कृपया अभी ईमेल द्वारा हमसे संपर्क करें।
इरिडियम विशेषताएं
अति-उच्च शुद्धता
शुद्धता 99.99%-99.999% (4एन-5एन ग्रेड) तक पहुंच सकती है, और वर्तमान संचरण और फिल्म एकरूपता की स्थिरता सुनिश्चित करने और अशुद्धियों के कारण होने वाली फिल्म परत दोषों से बचने के लिए अशुद्धियों की कुल मात्रा 10पीपीएम से नीचे नियंत्रित की जाती है।
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उच्च तापमान स्थिरता
इसमें थर्मल विस्तार का कम गुणांक है, अत्यधिक तापमान वाले वातावरण में संरचनात्मक अखंडता बनाए रखता है, उच्च तापमान पर कम थर्मल प्रतिरोध बनाए रखता है, गर्मी संचय और हानि को प्रभावी ढंग से रोकता है।
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संक्षारण प्रतिरोध
इरिडियम लगभग सभी एसिड, एक्वा रेजिया, पिघली हुई धातुओं और सिलिकेट्स का प्रतिरोध करता है। सतह पर एक घनी ऑक्साइड फिल्म बनती है, जो बाहरी संक्षारक माध्यम को प्रभावी ढंग से अलग करती है और सब्सट्रेट को क्षरण से बचाती है। (स्रोत)
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यांत्रिक विशेषताएं
उच्च घनत्व, उच्च तन्यता ताकत, विकर्स कठोरता 1670HV से अधिक या उसके बराबर, 2000 डिग्री उच्च तापमान पर भी उच्च कठोरता बनाए रखता है। और इसका उपयोग पर्यावरण को प्रदूषण पहुंचाए बिना लंबे समय तक किया जा सकता है।
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इरिडियम लक्ष्य चित्र
इरिडियम स्पटर लक्ष्य अनुप्रयोग
1. सेमीकंडक्टर और चिप निर्माण
इरिडियम स्पटरिंग टारगेट का उपयोग अति पतली अवरोधक परतें बनाने के लिए किया जाता है जो अर्धचालक और चिप्स के निर्माण के दौरान सिलिकॉन सब्सट्रेट में तांबे के आयनों की गति को सीमित करता है; चिप इंटरकनेक्ट में अधिक विश्वसनीयता की अनुमति देगा; और इसे बारीक संरचनाओं के साथ उच्च-घनत्व एकीकृत सर्किट की जरूरतों को पूरा करने के लिए 0.5{2}}3nm की मोटाई के साथ स्पटर किया जा सकता है, जिससे उपकरणों के प्रदर्शन में वृद्धि होती है।
2. इलेक्ट्रॉनिक घटक और प्रदर्शन प्रौद्योगिकी
इलेक्ट्रोड परतें बनाने के लिए लचीले OLED डिस्प्ले का निर्माण, माइक्रो रिले और स्विच संपर्क सामग्री का निर्माण, उच्च परिशुद्धता दबाव और तापमान सेंसर के लिए संवेदनशील घटकों का उत्पादन, और 5G आरएफ उपकरणों में उपयोग की जाने वाली प्राथमिक इलेक्ट्रोड सामग्री कुछ अनुप्रयोग हैं। इरिडियम लक्ष्य सिग्नल की दक्षता और माप की सटीकता को बढ़ाकर सिग्नल संचारित करने की प्रभावशीलता में काफी सुधार कर सकते हैं।
3. ऑप्टिकल उपकरण
अपने परावर्तक गुणों के कारण, इरिडियम इन्फ्रारेड डिटेक्टरों, इन्फ्रारेड ऑप्टिक्स (लेंस) और थर्मल इमेजिंग उत्पादों पर मध्य - और दूर {{1} इन्फ्रारेड प्रतिबिंब/प्रतिबिंब कोटिंग के लिए एक उत्कृष्ट उम्मीदवार है। इसके अलावा, इसकी बहुत चिकनी सतह के कारण, इरिडियम कोटिंग्स लेंस के जीवनकाल को बढ़ाने के लिए कठोर पर्यावरणीय परिस्थितियों के संपर्क में आने वाले उच्च अंत ऑप्टिकल सिस्टम के लिए अतिरिक्त सतह सुरक्षा प्रदान कर सकती है।
4. एयरोस्पेस
उपग्रहों और अंतरिक्ष जांचों के इन्फ्रारेड रिमोट सेंसिंग और इन्फ्रारेड इमेजिंग उपकरण उच्च इन्फ्रारेड प्रतिबिंब और अंतरिक्ष पर्यावरण स्थिरता प्राप्त करने के लिए इरिडियम झिल्ली पर निर्भर करते हैं। इरिडियम में उच्च गलनांक और उच्च तापमान पर उत्कृष्ट ऑक्सीकरण प्रतिरोध होता है, और इसका उपयोग उच्च तापमान वाले घटकों और इंजन से संबंधित उपकरणों के लिए एक सुरक्षात्मक या कार्यात्मक फिल्म के रूप में किया जा सकता है।
5. ऊर्जा और उत्प्रेरण
इरिडियम हाइड्रोजन ईंधन कोशिकाओं में उपयोग की जाने वाली झिल्ली इलेक्ट्रोड असेंबली (एमईए) में उत्प्रेरक के रूप में कार्य करता है। इरिडियम की उत्प्रेरक गतिविधि और रासायनिक स्थिरता हाइड्रोजन उत्पन्न करने और खपत की गई कुल ऊर्जा को कम करने के लिए इलेक्ट्रोलिसिस की दक्षता को बढ़ाती है। जब एनोड सामग्री के रूप में उपयोग किया जाता है, तो इरिडियम अन्य सामग्रियों की तुलना में क्लोर {{2}क्षार अनुप्रयोगों में काफी लंबा सक्रिय सेवा जीवन प्रदान करता है।
प्रसंस्करण
(1) कच्चे माल की तैयारी: एक समान पाउडर शुद्धता और कण आकार सुनिश्चित करने के लिए स्क्रीनिंग और अशुद्धता हटाने के लिए 99.99% से अधिक उच्च - शुद्धता वाले इरिडियम पाउडर का चयन करें।
(2) कोल्ड प्रेसिंग मोल्डिंग: इरिडियम पाउडर को एक सांचे में लोड किया जाता है और एक निश्चित ताकत के साथ छिद्रपूर्ण हरा खाली बनाने के लिए उच्च दबाव में ठंडा दबाया जाता है।
(3) प्री-सिंटरिंग: शरीर के अंदर की गैस को निकालने और प्रारंभिक रूप से समेकित करने के लिए निर्वात या सुरक्षात्मक वातावरण में कम तापमान पर गर्म करना।
(4) गर्म दबाव/गर्म आइसोस्टैटिक दबाव: शरीर को उच्च तापमान और दबाव के तहत सघन किया जाता है ताकि उच्च {{1} घनत्व, कम सरंध्रता वाले इरिडियम बिलेट्स प्राप्त किए जा सकें।
(5) ताप प्रसंस्करण उपचार: फोर्जिंग, रोलिंग या ताप उपचार के माध्यम से, अनाज को परिष्कृत करना, संरचना की एकरूपता में सुधार करना और आंतरिक तनाव को कम करना।
(6) परिशुद्धता मशीनिंग: तार काटने, पीसने और चमकाने को लक्ष्य रिक्त स्थान में संसाधित किया जाता है जो आकार, समतलता और खुरदरेपन की आवश्यकताओं को पूरा करता है।
(7) बैकप्लेट वेल्डिंग(वैकल्पिक): स्पटरिंग के दौरान अच्छी विद्युत और तापीय चालकता सुनिश्चित करने के लिए लक्ष्य सामग्री को तांबे, मोलिब्डेनम और अन्य बैकप्लेट के बैकप्लेट से बांधें।
(8) पैकेजिंग की सफाई और परीक्षण: तेल और धूल को हटाने के लिए अल्ट्रासोनिक सफाई, शुद्धता, घनत्व, गैर-विनाशकारी परीक्षण और अन्य परीक्षणों को पारित करने के बाद, वैक्यूम पैकेजिंग को साफ करें।
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इरिडियम स्पटरिंग लक्ष्य, जर्मनी को इरिडियम लक्ष्य
हाल ही में, हमने जर्मन ग्राहकों को सेमीकंडक्टर उद्योग में अपने उद्योगों को उन्नत करने में मदद करने के लिए उच्च शुद्धता वाले इरिडियम लक्ष्यों के एक बैच की आपूर्ति की। जापान और संयुक्त राज्य अमेरिका में हमारे ग्राहकों के पिछले आपूर्तिकर्ताओं की तुलना में हमारे पास उच्च गुणवत्ता अनुकूलन क्षमताएं, तेज़ लीड समय और अधिक प्रतिस्पर्धी कीमतें हैं। सामान प्राप्त करने के बाद, ग्राहकों ने हमारे उत्पादों और सेवाओं की सराहना की और उनसे गहन सहयोग की अपेक्षा की गई। भविष्य में, FANMETAL उत्पाद प्रौद्योगिकी और अनुकूलन क्षमताओं में सुधार करना, प्रक्रियाओं को अनुकूलित करना, लागत कम करना, यूरोप और संयुक्त राज्य अमेरिका में उच्च अंत बाजारों के लेआउट पर ध्यान केंद्रित करना, एक पूर्ण अंतर्राष्ट्रीय बिक्री और सेवा नेटवर्क का निर्माण करना और घरेलू लक्ष्यों के उच्च गुणवत्ता वाले "वैश्विक होने" को बढ़ावा देना जारी रखेगा।
कंपनी प्रोफाइल
फैनमेटल
XINXIANG फैनमेटल टेक कंपनी लिमिटेड मुख्य रूप से टंगस्टन मिश्र धातु, मोलिब्डेनम मिश्र धातु, सीमेंटेड कार्बाइड, स्पटरिंग टारगेट, टाइटेनियम मिश्र धातु, ज़िरकोनियम धातु, इरिडियम और स्टेलाइट के उत्पादन और बिक्री में लगी हुई है। FANMETAL के मुख्य उत्पादन, तकनीकी और बिक्री कर्मचारियों के पास कुशल यांत्रिक प्रसंस्करण, सतह उपचार के साथ-साथ तैयार उत्पादों की बिक्री और ग्राहक सेवा समाधान के साथ 10-30 वर्षों का अनुभव है। यह ग्राहकों को उत्पादन के दौरान आने वाली विभिन्न समस्याओं को हल करने में मदद कर सकता है और दक्षता में सुधार के लिए इसका उपयोग किया जाता है।
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गुणवत्ता आश्वासन एवं अनुपालन
हम अपने ग्राहकों के लिए आवश्यक उच्चतम शुद्धता प्राप्त कर सकते हैं और आईएसओ 9001 प्रमाणन, उत्पत्ति प्रमाणपत्र और एमटीसी रिपोर्ट प्रदान कर सकते हैं।
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उन्नत उपकरण
हम नवीनतम सिंटरिंग उपकरण, सीएनसी मशीनिंग केंद्र और निरीक्षण और विश्लेषण उपकरण से लैस हैं। और तकनीशियनों के पास 20 वर्षों से अधिक का पेशेवर अनुभव भी है।
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प्रतिस्पर्धी कीमतें
अन्य यूरोपीय और अमेरिकी आपूर्तिकर्ताओं की तुलना में, हम ग्राहकों के बजट को कम करते हुए उच्च गुणवत्ता वाले उत्पाद प्रदान करने में सक्षम हैं। और माल ढुलाई भी बहुत लागत प्रभावी है।
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कस्टम सेवा
हम ग्राहक के चित्र के अनुसार उत्पादन को अनुकूलित कर सकते हैं, और हम ग्राहक की आवश्यकताओं के अनुसार डिजाइन और प्रक्रिया भी कर सकते हैं।
अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न
अक्सर पूछे जाने वाले प्रश्न
प्रश्न: आपके इरिडियम स्पटरिंग लक्ष्य की उच्चतम शुद्धता क्या है? आप इसे कैसे साबित कर सकते हैं?
ए: हमारे इरिडियम (आईआर) स्पटरिंग लक्ष्य की उच्चतम शुद्धता 99.999% (5एन) है। हम अशुद्धता सामग्री को सत्यापित करने और सामग्री की शुद्धता की गारंटी के लिए जीडीएमएस (ग्लो डिस्चार्ज मास स्पेक्ट्रोमेट्री) और आईसीपी परीक्षण के परीक्षण परिणामों सहित तीसरे पक्ष की प्रयोगशालाओं से विश्लेषण प्रमाणपत्र (सीओए) प्रदान करते हैं।
प्रश्न: अनाज का आकार स्पटरिंग प्रदर्शन को कैसे प्रभावित करता है? आप अपनी प्रक्रिया में अनाज के आकार को कैसे नियंत्रित करते हैं?
उत्तर: एक समान और महीन - दाने का आकार स्थिर जमाव दर, लगातार फिल्म की मोटाई, कम कण उत्पादन और स्पटरिंग के दौरान एक समान फिल्म घनत्व सुनिश्चित करता है।
हम उच्च गुणवत्ता वाली पतली फिल्मों को सुनिश्चित करने के लिए अनुकूलित पाउडर प्रीट्रीटमेंट, वैक्यूम हॉट प्रेसिंग / एचआईपी सिंटरिंग, और पोस्ट {0} सिंटरिंग हीट ट्रीटमेंट के माध्यम से बारीक, एक समान और कम दोष वाली सूक्ष्म संरचना प्राप्त करके अनाज के आकार को सटीक रूप से नियंत्रित करते हैं।
प्रश्न: आपके इरिडियम लक्ष्यों के लिए कौन से आकार और आयाम उपलब्ध हैं?
उत्तर: हम इरिडियम स्पटरिंग लक्ष्यों को विभिन्न आकारों में अनुकूलित कर सकते हैं, जिनमें गोल, समतलीय आयताकार, रोटरी, गोलाकार रिंग, चरण-दर-चरण आकार के लक्ष्य और कस्टम विशेष प्रोफ़ाइल शामिल हैं।
आयाम ग्राहक के चित्र के अनुसार अनुकूलन योग्य हैं, जिसमें छोटे प्रयोगशाला लक्ष्य से लेकर बड़े पैमाने के औद्योगिक कोटिंग लक्ष्य तक मानक और गैर-मानक आकार शामिल हैं।
प्रश्न: स्पटरिंग के दौरान इरिडियम लक्ष्य की उपयोग दर में सुधार कैसे करें?
उत्तर: लक्ष्य उपयोग बढ़ाने के लिए, हम अनुशंसा करते हैं:
- समतल लक्ष्यों के बजाय रोटरी बेलनाकार इरिडियम लक्ष्यों का उपयोग करना, जो उपयोग में काफी सुधार कर सकता है।
- असामान्य क्षरण और कणों को कम करने के लिए उच्च -घनत्व, समान सूक्ष्म संरचना लक्ष्यों को अपनाना।
- अधिक समान क्षरण प्राप्त करने के लिए मैग्नेट्रोन चुंबकीय क्षेत्र डिजाइन और स्पटरिंग प्रक्रिया मापदंडों को अनुकूलित करना।
- हम वास्तविक उत्पादन में उच्च उपयोग का समर्थन करने के लिए उच्च {{0}एकरूपता इरिडियम लक्ष्य भी प्रदान करते हैं।
प्रश्न: आपकी शिपिंग लागत क्या है?
उत्तर: यह मुख्य रूप से वजन, मात्रा, गंतव्य से दूरी और पैकेज के आकार पर निर्भर करता है। हम आपको सबसे उचित शिपिंग लागत प्राप्त करने में मदद करने के लिए एक्सप्रेस कंपनी के साथ संवाद करने की पूरी कोशिश करेंगे।
प्रश्न: आपकी डिलीवरी का समय क्या है?
ए: हमारी शिपिंग विधि मुख्य रूप से हवा या समुद्र के द्वारा है। उत्पाद समाप्त होने के बाद, हम टाइट पैकेजिंग के लिए लकड़ी, प्लास्टिक या कार्टन बक्से का उपयोग करेंगे, और उत्पाद को नुकसान से बचाने के लिए कुछ नरम सामग्री भी डालेंगे। हम इसे यथाशीघ्र, 20-30 दिनों के भीतर आप तक पहुंचा देंगे।
उत्पाद विवरण
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