उच्च शुद्धता टाइटेनियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु लक्ष्य
उच्च शुद्धता टाइटेनियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु लक्ष्य विवरण
हमारी कंपनी आम तौर पर मिश्र धातु लक्ष्यों के निर्माण के लिए पाउडर धातुकर्म प्रक्रिया का उपयोग करती है। तैयार उत्पाद में उच्च घनत्व, कोई सरंध्रता नहीं, कोई सरंध्रता और पृथक्करण, एकसमान संरचना, महीन दाने आदि की विशेषताएं हैं। लक्ष्य की भूमिका मैग्नेट्रोन स्पटरिंग या भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) तकनीक के माध्यम से सब्सट्रेट पर एक विशिष्ट कार्य या सजावटी प्रभाव वाली फिल्म जमा करना है।
उच्च शुद्धता टाइटेनियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु लक्ष्यइसमें टाइटेनियम मिश्र धातुओं के उत्कृष्ट गुणों की एक श्रृंखला शामिल है:
1. वैक्यूम कोटिंग प्रक्रिया में उच्च शुद्धता और उच्च घनत्व, अधिक समान और उच्च गुणवत्ता वाली कोटिंग प्राप्त की जा सकती है
2. उच्च तन्यता ताकत, अच्छा पहनने का प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध और ऑक्सीकरण प्रतिरोध, जो लक्ष्य और फिल्म की सेवा जीवन प्रदान कर सकता है
3. अच्छी विद्युत और तापीय चालकता, उच्च तापमान स्थिरता
4. उच्च कोटिंग दक्षता और उच्च गुणवत्ता
उच्च शुद्धता टाइटेनियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु लक्ष्यहमारी कंपनी द्वारा उत्पादित का व्यापक रूप से सजावटी कोटिंग और टूल कोटिंग में उपयोग किया जाता है, जो टूल की सेवा जीवन और दक्षता में प्रभावी ढंग से सुधार कर सकता है। सेमीकंडक्टर निर्माण में, इन्हें अक्सर सेमीकंडक्टर उपकरण में इंटरफ़ेस परत, वेल्डिंग सहायता फिल्म, बाधा परत इत्यादि के निर्माण के लिए उपयोग किया जाता है, और मुख्य रूप से वेफर विनिर्माण में धातु स्पटरिंग के रूप में उपयोग किया जाता है, अक्सर कोटिंग के लिए पीवीडी प्रक्रिया का उपयोग किया जाता है। सजावटी कोटिंग्स का उपयोग मुख्य रूप से आभूषण, उपकरण, चश्मे के फ्रेम, घर की सजावट और अन्य क्षेत्रों में किया जाता है।
उच्च शुद्धता टाइटेनियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु लक्ष्य विशिष्टताएँ:
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सामग्री |
Ti50Al50,Ti33Al67,Ti70Al30 |
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तकनीक |
सिंटरिंग, फोर्जिंग, एनीलिंग, रोलिंग, वैक्यूम मेल्टिंग, मशीनिंग |
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पवित्रता |
99.9%-99.999% |
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व्यास |
10-1000मिमी |
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मोटाई |
1-100मिमी |
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घनत्व |
4.5 ग्राम/सेमी3 |
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सतह |
पॉलिश, उज्ज्वल |
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आकार |
डिस्क |
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मानक |
एएसटीएम, जीबी, जेआईएस |
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प्रमाणन |
ISO9001 |
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