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कॉपर स्पटरिंग लक्ष्य
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कॉपर स्पटरिंग लक्ष्य

कॉपर स्पटरिंग लक्ष्य

कॉपर स्पटरिंग लक्ष्य विवरण और अनुप्रयोग स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री का एक विशेष वर्ग है जो मुख्य रूप से पतली फिल्म कोटिंग और वैक्यूम कोटिंग उद्योगों में उपयोग किया जाता है। कॉपर स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता वाली तांबे की धातु का एक उत्पाद है जिसे प्रक्रियाओं की एक श्रृंखला द्वारा संसाधित किया जाता है (जैसे...
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Product Details ofकॉपर स्पटरिंग लक्ष्य

कॉपर स्पटरिंग लक्ष्य विवरण और अनुप्रयोग

स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री का एक विशेष वर्ग है जो मुख्य रूप से पतली फिल्म कोटिंग और वैक्यूम कोटिंग उद्योगों में उपयोग किया जाता है। कॉपर स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता वाली तांबे की धातु का एक उत्पाद है जिसे प्रक्रियाओं की एक श्रृंखला (जैसे एक्सट्रूज़न, ड्राइंग, हीट ट्रीटमेंट और मशीनिंग, आदि) द्वारा संसाधित किया जाता है, और इसमें कई उत्कृष्ट गुण होते हैं, जैसे उच्च शुद्धता, कम कीमत, विद्युत और तापीय चालकता मजबूत, उच्च उत्पादन क्षमता और लंबी सेवा जीवन। कॉपर स्पटरिंग टारगेट को फ्लैट कॉपर स्पटरिंग टारगेट (गोल या चौकोर) और रोटेटिंग कॉपर स्पटरिंग टारगेट (आमतौर पर ट्यूबलर) में विभाजित किया जा सकता है, और आकार मानक वास्तविक एप्लिकेशन या ग्राहकों की आवश्यकताओं के अनुसार निर्धारित किया जाता है। कॉपर स्पटरिंग लक्ष्य पसंदीदा स्पटरिंग सामग्री है, जो डीसी बाइपोलर स्पटरिंग, ट्रिपोलर स्पटरिंग, क्वाड्रुपोल स्पटरिंग, आयन बीम स्पटरिंग या मैग्नेट्रोन स्पटरिंग इत्यादि के लिए उपयुक्त है, और इसका उपयोग प्रतिबिंबित फिल्मों, प्रवाहकीय फिल्मों, अर्धचालक फिल्मों, सजावटी फिल्मों को एकीकृत करने के लिए किया जा सकता है। सर्किट और डिस्प्ले, आदि।


कॉपर स्पटरिंग लक्ष्यविशेष विवरण:

सामग्री

ताँबा

पवित्रता

99.95 प्रतिशत

आकार

60 x 16 मिमी

घनत्व

8.9 ग्राम/सेमी3

गलनांक

1083 डिग्री

सतह

पॉलिश, लुढ़का, साफ, मशीनीकृत, जमीन, क्षार धो

डिलीवरी का समय

15-20 दिन

मानक

एएसटीएम, जीबी, एएनएसआई

प्रमाणीकरण

आईएसओ 9001


कॉपर स्पटरिंग लक्ष्य चित्र:

Copper Sputtering Targets

China Copper Sputtering Targets

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