99.99% निकेल लक्ष्य

99.99% निकेल लक्ष्य विवरण

हमारे 99.99% निकल लक्ष्य उच्च तापमान पिघलने, गर्मी उपचार, रोलिंग, फोर्जिंग, सतह उपचार मशीनिंग और अंत में गुणवत्ता नियंत्रण सहित उत्पादन प्रक्रियाओं की एक श्रृंखला से गुजरते हैं। आंतरिक संरचना एक समान है और दाना ठीक है। एक अन्य उत्पादन विधि स्पटरिंग प्रक्रिया है। उच्च-ऊर्जा आयन किरण को निकल लक्ष्य पर निर्देशित किया जाता है, और थूके हुए परमाणु सब्सट्रेट पर जमा हो जाते हैं।

इसकी मुख्य विशेषताएं लचीलापन, उच्च संक्षारण प्रतिरोध और लौहचुंबकत्व हैं, और इसकी पॉलिश की गई सतह हवा के संपर्क में आने पर अपनी चमक नहीं खोती है। और यांत्रिक शक्ति अधिक है, विरूपण और फ्रैक्चर के बिना भारी बाहरी बल का सामना कर सकता है। इसकी प्रतिरोधकता कम है, जो इसे एक उत्कृष्ट विद्युत चालक बनाती है।

99.99% निकेल टारगेट का उपयोग मुख्य रूप से स्टेनलेस स्टील, इंजन और सौर सेल के निर्माण में किया जाता है। जब निर्वात में वाष्पित हो जाता है, तो निकेल सिरेमिक सतहों पर एक सजावटी कोटिंग या सर्किट डिवाइस निर्माण में एक वेल्डिंग परत बना सकता है। चुंबकीय भंडारण मीडिया, ईंधन कोशिकाओं और सेंसर के उत्पादन में, इसे अक्सर चुंबकीय परत बनाने के लिए थूक दिया जाता है। इसकी अद्वितीय लचीलापन, उच्च संक्षारण प्रतिरोध और थर्मल चालकता इसे विभिन्न प्रकार के कोटिंग्स, विशेष रूप से पतली फिल्मों और गैस चरण जमाव के लिए एक आदर्श सामग्री बनाती है।

99.99% निकेल लक्ष्य विशिष्टताएँ:

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