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Yttrium एल्यूमीनियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य
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Yttrium एल्यूमीनियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य

Yttrium एल्यूमीनियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य

Yttrium एल्यूमीनियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य एक विशिष्ट प्रक्रिया के माध्यम से Yttrium ऑक्साइड और एल्यूमीनियम ऑक्साइड से बना एक प्रकार का सिरेमिक लक्ष्य है। वे अक्सर ऑप्टिकल इंस्ट्रूमेंट्स, इलेक्ट्रॉनिक सेमीकंडक्टर्स, एयरोस्पेस, मैकेनिकल प्रोसेसिंग और अन्य क्षेत्रों में उपयोग किए जाते हैं ताकि उच्च प्रकाश संप्रेषण, उच्च चालकता, पहनने के प्रतिरोध, इन्सुलेशन और अन्य गुणों के साथ पतली फिल्म कोटिंग्स तैयार की जा सके। हम टाइटेनियम एल्यूमीनियम, एल्यूमीनियम सिलिकॉन, शुद्ध क्रोमियम, शुद्ध जिरकोनियम और अन्य मिश्र धातु लक्ष्य भी प्रदान कर सकते हैं। यदि आपके पास इस उत्पाद के विवरण या डिलीवरी के समय के बारे में कोई प्रश्न हैं, तो admin@fanmetalloy.com पर हमारे साथ संपर्क करने में संकोच न करें। हम आपके संदेश के लिए तत्पर हैं।
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Product Details ofYttrium एल्यूमीनियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य

Yttrium एल्यूमीनियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य विवरण

सामग्री चयन और प्रसंस्करण

उच्च -शुद्धता YAG पाउडर की तैयारी - कोल्ड आइसोस्टैटिक प्रेसिंग - वैक्यूम सिंटरिंग - कटिंग - पीस और पॉलिशिंग - गुणवत्ता निरीक्षण।

प्रसंस्करण के दौरान, शुद्धता, अशुद्धता सामग्री, कण आकार वितरण की एकरूपता, उपयुक्त क्रिस्टल रूप और प्रसंस्करण सटीकता पर ध्यान दिया जाना चाहिए, जो लक्ष्य के अंतिम प्रदर्शन और गुणवत्ता को प्रभावित करेगा।

विशेषताएँ

एकल स्थिर क्रिस्टल संरचना सब्सट्रेट पर एक समान, घनी और अच्छी तरह से क्रिस्टलीय फिल्म के गठन के लिए अनुकूल है।

उत्कृष्ट ऑप्टिकल गुण, अच्छा प्रकाश संप्रेषण, कम प्रकाश अवशोषण गुणांक और कम प्रकाश हानि।

उच्च कठोरता, विकृत करने के लिए आसान नहीं, मजबूत पहनने के प्रतिरोध और लंबी सेवा जीवन

अच्छी चालकता और रासायनिक स्थिरता, विभिन्न स्पटरिंग प्रक्रियाओं और कोटिंग वातावरण की एक किस्म के लिए उपयुक्त है।

आवेदन

Yttrium एल्यूमीनियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्यों का उपयोग व्यापक रूप से ऑप्टिकल कोटिंग, सेमीकंडक्टर एकीकृत सर्किट, फ्लैट पैनल डिस्प्ले कोटिंग, चुंबकीय भंडारण, एयरोस्पेस भागों की सतह उपचार, मशीनिंग टूल कोटिंग, चिकित्सा उपकरणों और अन्य क्षेत्रों की सतह संशोधन में किया जा सकता है।

1। इसका उपयोग विभिन्न ऑप्टिकल फिल्मों जैसे कि एंटी-रिफ्लेक्शन फिल्म और चिंतनशील फिल्म को तैयार करने के लिए किया जा सकता है, जो ऑप्टिकल लेंस, टेलीस्कोप, माइक्रोस्कोप, आदि जैसे ऑप्टिकल इंस्ट्रूमेंट्स पर लागू होते हैं ताकि ऑप्टिकल सिस्टम की इमेजिंग गुणवत्ता और प्रदर्शन में सुधार हो सके।

2। इसका उपयोग एकीकृत सर्किट में कार्यात्मक फिल्मों को इंसुलेट करने के लिए किया जाता है, जो चिप्स के एकीकरण और विश्वसनीयता को बेहतर बनाने में मदद करता है, सर्किट के बीच इन्सुलेशन प्रदर्शन और सिग्नल ट्रांसमिशन की सटीकता सुनिश्चित करता है।

3। इसका उपयोग मैग्नेटो-ऑप्टिकल स्टोरेज मीडिया के लिए एंटी-इंटरफेरेंस फिल्मों को तैयार करने के लिए किया जा सकता है, जो भंडारण घनत्व में सुधार कर सकता है और डेटा ट्रांसमिशन की गति और स्थिरता सुनिश्चित कर सकता है।

4। उच्च-प्रदर्शन वाली फिल्में कठोरता में सुधार कर सकती हैं, विमान इंजन घटकों की प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध और थर्मल स्थिरता पहन सकती हैं, घटकों की सेवा जीवन का विस्तार कर सकती हैं, और चरम वातावरण में विश्वसनीयता और सुरक्षा सुनिश्चित कर सकती हैं।

 

Yttrium एल्यूमीनियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य आयाम

श्रेणी

Y3al5o12

पवित्रता

99.9%-99.999%‌

मोहन कठोरता

8-8.5

व्यास

60 मिमी -150 मिमी या अनुकूलित

मोटाई

3-6 मिमी +2 मिमी

घनत्व

4.56g/cm3

आकार

गोल

डिलीवरी का समय

15-20 दिन

प्रमाणीकरण

आईएसओ 9001

Yttrium एल्यूमीनियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य चित्र

YAG Sputtering Targets

Yttrium Aluminum Oxide Sputtering Targets

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