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ज़िरकोनियम 702 राउंड स्पटरिंग लक्ष्य
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ज़िरकोनियम 702 राउंड स्पटरिंग लक्ष्य

ज़िरकोनियम 702 राउंड स्पटरिंग लक्ष्य

ज़िरकोनियम 702 राउंड स्पटरिंग लक्ष्य विवरण पतली फिल्म जमाव (कोटिंग) सब्सट्रेट सामग्री पर पतली फिल्म कोटिंग बनाने और जमा करने की प्रक्रिया है जिसका उपयोग सब्सट्रेट के गुणों के कुछ तत्वों को बदलने या सुधारने के लिए किया जा सकता है। यह विनिर्माण क्षेत्र में एक महत्वपूर्ण कदम है...
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Product Details ofज़िरकोनियम 702 राउंड स्पटरिंग लक्ष्य

ज़िरकोनियम 702 राउंड स्पटरिंग लक्ष्य विवरण

पतली फिल्म जमाव (कोटिंग) सब्सट्रेट सामग्री पर पतली फिल्म कोटिंग बनाने और जमा करने की प्रक्रिया है जिसका उपयोग सब्सट्रेट के गुणों के कुछ तत्वों को बदलने या सुधारने के लिए किया जा सकता है। यह कई ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक, सॉलिड-स्टेट और चिकित्सा उपकरणों और उत्पादों के उत्पादन में एक महत्वपूर्ण विनिर्माण कदम है। ज़िरकोनियम 702 राउंड स्पटरिंग टारगेट कोटिंग प्रक्रिया में सबसे अधिक इस्तेमाल किया जाने वाला टारगेट टारगेट है। यह सब्सट्रेट को पहनने के लिए प्रतिरोधी कोटिंग, परावर्तक कोटिंग, प्रवाहकीय कोटिंग, संक्षारण प्रतिरोधी कोटिंग या सजावटी कोटिंग के साथ कोट कर सकता है। सामग्री की शुद्धता जितनी अधिक होगी, कोटिंग का आसंजन, पहनने का प्रतिरोध और सेवा जीवन उतना ही अधिक होगा और उत्पाद पर सुरक्षात्मक प्रभाव उतना ही मजबूत होगा। ज़िरकोनियम 702 राउंड स्पटरिंग टारगेट में कम घनत्व, उच्च विशिष्ट शक्ति, संक्षारण प्रतिरोध, उच्च तापमान प्रतिरोध, पहनने के प्रतिरोध, उत्कृष्ट प्रसंस्करण प्रदर्शन, गैर विषैले, गैर-चुंबकीय, छोटे थर्मल न्यूट्रॉन अवशोषण क्रॉस-सेक्शन, लंबी सेवा जीवन के फायदे हैं। आदि, और व्यापक रूप से उपयोग किया जा सकता है इलेक्ट्रॉनिक उत्पादों, फाइबर लेजर, एलईडी डिस्प्ले, माइक्रोस्कोप, सेमीकंडक्टर लेजर और अन्य सटीक उपकरणों के कोटिंग प्रसंस्करण के लिए उपयुक्त। यदि आवश्यक हो, तो कृपया बेझिझक हमसे ईमेल द्वारा संपर्क करें।

ज़िरकोनियम 702 राउंड स्पटरिंग लक्ष्य विशिष्टताएँ:

श्रेणी

Zr702

पवित्रता

99.9%-99.99%

घनत्व

6.5 ग्राम/सेमी3

तकनीक

हॉट आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, सिंटरिंग, वैक्यूम मेल्टिंग, फोर्जिंग, एक्सट्रूडिंग, मशीनिंग

गोलाकार व्यास

ओडी:50-300मिमी,आईडी:30-280मिमी

मोटाई

1मिमी-35मिमी

डिलीवरी का समय

15-20 दिन

सतह

पॉलिश, क्षार सफाई, पीसना, ब्लैक ऑक्साइड, आदि।

प्रमाणीकरण

आईएसओ 9001

ज़िरकोनियम 702 राउंड स्पटरिंग लक्ष्य चित्र

Zirconium Sputtering Targets

Zirconium Zr Sputtering Targets

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