शुद्ध ज़िरकोनियम स्पटरिंग लक्ष्य

शुद्ध ज़िरकोनियम स्पटरिंग लक्ष्य सुविधाएँ और अनुप्रयोग

ज़िरकोनियम का व्यापक रूप से रासायनिक उद्योग में उपयोग किया जाता है जहां उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध के कारण संक्षारक स्थितियां मौजूद होती हैं। इसके अलावा, इसके बेहतर उच्च तापमान गुणों के कारण, इसके कम न्यूट्रॉन अवशोषण के कारण, इसका उपयोग अक्सर परमाणु रिएक्टरों के निर्माण में किया जाता है। जब धातु ज़िरकोनियम को शुद्ध ज़िरकोनियम स्पटरिंग लक्ष्य में बनाया जाता है, तो ज़िरकोनियम स्पटरिंग कोटिंग का उपयोग लक्ष्य सब्सट्रेट पर धातु ज़िरकोनियम फिल्म की एक परत बनाने के लिए किया जा सकता है, और यह व्यापक रूप से सजावटी कोटिंग्स, अर्धचालक, ऑप्टिकल कोटिंग्स और काटने के उपकरण में उपयोग किया जाता है। शुद्ध ज़िरकोनियम स्पटरिंग लक्ष्य रासायनिक उद्योग और एयरोस्पेस उद्योग में महत्वपूर्ण घटकों के लिए बहुत अच्छा विरोधी जंग और उच्च तापमान और कम तापमान कोटिंग संरक्षण प्रदान कर सकते हैं, जिसने कुछ हद तक टाइटेनियम सामग्री के संक्षारण प्रतिरोध को पार कर लिया है। यह ध्यान दिया जाना चाहिए कि उत्पादन प्रक्रिया के दौरान अशुद्धियों को हटाने और परिशोधन पर ध्यान देना चाहिए। लक्ष्य की शुद्धता अपने उत्कृष्ट प्रदर्शन और कोटिंग की गुणवत्ता से संबंधित है।

शुद्ध ज़िरकोनियम स्पटरिंग लक्ष्य निर्दिष्टीकरण:

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