टाइटेनियम बोराइड Sputtering लक्ष्य

टाइटेनियम बोराइड Sputtering लक्ष्य

FANMETAL PvD कोटिंग प्रणाली में इस्तेमाल TiB2 टाइटेनियम बोराइड Sputtering लक्ष्य की आपूर्ति. हम भी उच्च शुद्धता 99.9999% के लिए अन्य धातुओं के लक्ष्य और वाष्पीकरण सामग्री प्रदान करते हैं, कीमती धातु लक्ष्य (Au, Ag, Pt) , लक्ष्य बंधन सेवा, क्रूसिबल लाइनर (तांबा, मोलिब्डेनम, टंगस्टन आदि), सिरेमिक sputtering लक्ष्य।

टाइटेनियम बोराइड (TiB2) बोरान और टाइटेनियम का सबसे स्थिर यौगिक है। इसमें अच्छी विद्युत चालकता, धात्विक चमक, उच्च कठोरता और भंगुरता होती है।

पाउडर ग्रे या ग्रे-ब्लैक है, पिघलने बिंदु: 2980 डिग्री सेल्सियस, घनत्व: 4.52 ग्राम / सेमी³न, ऑक्सीकरण प्रतिरोध तापमान हवा में 1000 डिग्री सेल्सियस तक पहुंच सकता है, और यह एचसीएल और एचएफ एसिड में स्थिर है।

टाइटेनियम बोराइड Sputtering लक्ष्य मुख्य रूप से समग्र सिरेमिक उत्पादों को तैयार करने के लिए प्रयोग किया जाता है; यह भी प्रवाहकीय सिरेमिक सामग्री, सिरेमिक काटने के उपकरण और molds, आदि के लिए इस्तेमाल किया जा सकता है; क्योंकि यह पिघली हुई धातु के जंग का विरोध कर सकता है, इसका उपयोग पिघले हुए धातु क्रूसिबल और इलेक्ट्रोलाइटिक सेल इलेक्ट्रोड के निर्माण के लिए किया जा सकता है।

टाइटेनियम बोराइड Sputtering लक्ष्य चित्र:

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