मो स्पटरिंग लक्ष्य
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Product Details ofमो स्पटरिंग लक्ष्य
मो स्पटरिंग लक्ष्य
मॉडल नहीं है। :मो स्पटरिंग लक्ष्य
मानक: एएसटीएम, जीबी
सतह: पॉलिश, साइनोमोलगस
आवेदन: सतह कोटिंग
शुद्धता: 99.95 प्रतिशत न्यूनतम
घनत्व: 10.2 ग्राम/सेमी3
आवेदन: वैक्यूम कोटिंग, अर्धचालक
विशिष्टता: आईएसओ 9 001: 2015
मो स्पटरिंग लक्ष्य विशिष्टता
| प्रोडक्ट का नाम | Mo1 मोलिब्डेनम लक्ष्य मोलिब्डेनम की कीमतें |
| सामग्री | मोलिब्डेनम कच्चा माल |
| रंग | मूल |
| पवित्रता | Mo>99.95 प्रतिशत |
| विशेष विवरण | दीया.({0}}मिमी) x मोटाई(0.1-100)मिमी;ग्राहकों की ड्राइंग के लिए अनुकूलित करें |
सतह का उपचार | चमकाने, रोलिंग |
| आवेदन पत्र | एलसीडी, टच स्क्रीन, सोलर सेल आदि के निर्माण के लिए |
मो स्पटरिंग लक्ष्य चित्र:
हमारा लक्ष्य सेमीकंडक्टर्स, ऑप्टिक्स, लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले, इंटीग्रेटेड सर्किट्स, हाई-एंड इंडस्ट्रीज, वैक्यूम कोटिंग, सोलर एनर्जी, ग्रीन एनर्जी और ऑटोमोटिव ग्लास फील्ड्स पर लागू करना है।
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