उच्च शुद्धता बोरॉन लक्ष्य

उच्च शुद्धता बोरान लक्ष्य सुविधाएँ एवं अनुप्रयोग

कोटिंग लक्ष्य एक स्पटरिंग स्रोत है जो उपयुक्त तकनीकी स्थितियों के तहत मैग्नेट्रोन स्पटरिंग, मल्टी-आर्क आयन प्लेटिंग या अन्य प्रकार के कोटिंग सिस्टम द्वारा सब्सट्रेट पर विभिन्न कार्यात्मक फिल्में बनाता है। उच्च शुद्धता शुद्धता बोरान लक्ष्य फिल्म निर्माण के लिए उपयोग की जाने वाली सामग्री है। यह पाउडर धातुकर्म प्रक्रिया या वैक्यूम आर्क पिघलने द्वारा बोराइड सामग्री से निर्मित होता है। बोरोन टारगेट में उच्च प्रक्रियाशीलता, उच्च तापीय स्थिरता, उच्च घनत्व, अच्छा संक्षारण प्रतिरोध, उच्च यांत्रिक शक्ति, उच्च कोटिंग गुणवत्ता, पहनने के प्रतिरोध और लंबी सेवा जीवन जैसे उत्कृष्ट गुण हैं। उच्च शुद्धता वाले बोरान लक्ष्य का उपयोग मुख्य रूप से इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों, सेमीकंडक्टर चिप्स, सौर कोशिकाओं, ऑप्टिकल उपकरणों और अन्य उच्च में स्पटरिंग के लिए विभिन्न कार्यात्मक फिल्मों, जैसे हार्ड कोटिंग्स, चुंबकीय फिल्में, ऑप्टिकल फिल्में, एंटी-रिफ्लेक्शन फिल्में इत्यादि का उत्पादन करने के लिए किया जाता है। ग्रेड सजावटी आपूर्ति

उच्च शुद्धता बोरान लक्ष्य विशिष्टता:

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