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एल्युमिनियम क्रोमियम स्पटरिंग गोल लक्ष्य
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एल्युमिनियम क्रोमियम स्पटरिंग गोल लक्ष्य

एल्युमिनियम क्रोमियम स्पटरिंग गोल लक्ष्य

एल्युमिनियम क्रोमियम स्पटरिंग राउंड टार्गेट फ़ीचर्स और एप्लीकेशन अलॉय स्पटरिंग मटीरियल्स की बढ़ती मांग मेटल प्रोसेसिंग, एयरोस्पेस इंडस्ट्री और पावर इंजीनियरिंग में मल्टीफंक्शनल हार्ड सरफेस कोटिंग्स बनाने के मौजूदा चलन को दर्शाती है। एल्युमिनियम क्रोमियम स्पटरिंग राउंड...
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Product Details ofएल्युमिनियम क्रोमियम स्पटरिंग गोल लक्ष्य

एल्युमिनियम क्रोमियम स्पटरिंग गोल लक्ष्य सुविधाएँ और अनुप्रयोग

अलॉय स्पुतरिंग सामग्री की बढ़ती मांग धातु प्रसंस्करण, एयरोस्पेस उद्योग और पावर इंजीनियरिंग में बहुक्रियाशील कठोर सतह कोटिंग्स बनाने की वर्तमान प्रवृत्ति को दर्शाती है। एल्युमिनियम क्रोमियम स्पटरिंग राउंड टारगेट को अक्सर पाउडर मेटलर्जी प्रक्रिया का उपयोग करके निर्मित किया जाता है, जिसे आम तौर पर मोल्डिंग द्वारा संपीड़ित किया जाता है, जो सामग्री के माइक्रोस्ट्रक्चर को धातु संलयन प्रक्रिया द्वारा उत्पादित की तुलना में अधिक समान और महीन बनाता है, और इसका स्थायित्व लंबा होता है। एल्युमिनियम क्रोमियम स्पटरिंग राउंड टारगेट्स द्वारा स्पटर की गई हार्ड कोटिंग कटिंग और स्टैम्पिंग इंस्ट्रूमेंट्स की ताकत को दोगुना कर सकती है, ताकि बिना कूलिंग माध्यम के हाई-स्पीड प्रोसेसिंग की जा सके और मशीन के पुर्जों के क्षरण प्रतिरोध और स्थायित्व को बढ़ाया जा सके। वे विभिन्न औद्योगिक कोटिंग और ग्लास कोटिंग उद्योगों जैसे इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों, धातु उपकरण प्रसंस्करण, अर्धचालक घटकों, ऑटोमोटिव रीरव्यू मिरर, प्रकाश उद्योग और वास्तुशिल्प ग्लास के लिए बहुत उपयुक्त हैं।

एल्युमीनियम क्रोमियम स्पटरिंग गोल लक्ष्य निर्दिष्टीकरण:

सामग्री: Cr30Al70

शुद्धता: 99.5 प्रतिशत

आकार: स्तंभ (दीया<650mm, Thickness >1 मिमी); आयत, चरण आयत (लंबाई<1500mm, Width<300mm, Thickness>1 मिमी); ट्यूब लक्ष्य (ओडी: 20 मिमी -160 मिमी, मोटाई: 2-20 मिमी)

सतह: पॉलिश, उज्ज्वल, रासायनिक सफाई, ब्लैक ऑक्साइड, आदि।

प्रमाणन: ISO9001

एल्युमिनियम क्रोमियम स्पटरिंग गोल लक्ष्य चित्रों:

Aluminum Chromium Sputter Target

Aluminum Chromium Sputtering Round Targets

 

 

सामान्य प्रश्न

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