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ऐसी मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य
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ऐसी मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य

ऐसी मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य

एआईएसआई मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य विवरण कोटिंग फिल्म जमाव तकनीक में स्पटरिंग लक्ष्य सबसे महत्वपूर्ण कच्चा माल है, जिसमें आकार, समतलता, चिकनाई, घनत्व और अशुद्धता सामग्री के लिए उच्च आवश्यकताएं हैं। हमारी कंपनी द्वारा प्रदान किया गया AISi मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य हो सकता है ...
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Product Details ofऐसी मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य

ऐसी मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य विवरण

कोटिंग फिल्म डिपोजिशन तकनीक में स्पटरिंग टारगेट सबसे महत्वपूर्ण कच्चा माल है, जिसमें आकार, समतलता, चिकनाई, घनत्व और अशुद्धता सामग्री के लिए उच्च आवश्यकताएं होती हैं। हमारी कंपनी द्वारा प्रदान किया गया AISi मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य विभिन्न प्रकार का हो सकता है, जैसे कि छिड़काव लक्ष्य, घूमने योग्य गोलाकार लक्ष्य या सपाट आयताकार लक्ष्य, आदि, जिनमें अच्छी कठोरता और समतलता, बेहतर ऑप्टिकल गुण, अच्छी विद्युत और तापीय चालकता और उच्च गुण होते हैं। शुद्धता। उच्च, पहनने के प्रतिरोध और स्थायित्व और अन्य फायदे। AISi अलॉय स्पटरिंग टारगेट में सामान्य मेटल टारगेट और बेहतर प्रदर्शन की तुलना में आवेदन का व्यापक दायरा है। वे व्यापक रूप से सेमीकंडक्टर एकीकृत सर्किट, सौर फोटोवोल्टिक, एलसीडी पारदर्शी प्रवाहकीय ग्लास, आर्किटेक्चरल लो-ई ग्लास, फ्लैट डिस्प्ले और वर्कपीस की सतह कोटिंग में उपयोग किए जाते हैं। अनुप्रयोगों की एक विस्तृत श्रृंखला।


ऐसी मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्यविशेष विवरण:

सामग्री

अलसी80-20

तकनीक

हॉट आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, सिंटरिंग, फोर्जिंग, एनीलिंग

पवित्रता

99.9 प्रतिशत -99.999 प्रतिशत

टाइप

प्लानर स्पटरिंग टारगेट, रोटरी स्पटरिंग टारगेट, एकर कैथोड।

मोटाई

40 मिमी

लंबाई

10मिमी-2000मिमी

व्यास

100 मिमी

घनत्व

2.7 ग्राम/सेमी3

आकार

डिस्क, प्लेट्स, कदम, आयत, ट्यूब

सतह

पॉलिश, क्षार सफाई, पीस, ब्लैक ऑक्साइड, आदि।

डिलीवरी का समय

15-20 दिन

प्रमाणीकरण

आईएसओ 9001


ऐसी मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य चित्र:

China AISi Alloy Sputtering Target

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