99.5% बोरोन स्पटरिंग लक्ष्य
99.5% बोरोन स्पटरिंग लक्ष्य विवरण
कोटिंग लक्ष्य एक स्पटरिंग स्रोत है जो मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग, मल्टी-आर्क आयन प्लेटिंग या अन्य प्रकार के कोटिंग सिस्टम के माध्यम से उचित प्रक्रिया स्थितियों के तहत स्पटरिंग द्वारा सब्सट्रेट पर विभिन्न कार्यात्मक फिल्में बनाता है। 99.5% बोरोन स्पटरिंग लक्ष्य आमतौर पर इलेक्ट्रॉनिक उपकरण, अर्धचालक और फ्लैट पैनल डिस्प्ले के कार्यात्मक कोटिंग के लिए उपयोग किए जाते हैं। उनमें उच्च शुद्धता, उच्च कठोरता, संक्षारण प्रतिरोध, उच्च तापमान प्रतिरोध, ऑक्सीकरण प्रतिरोध, पहनने के प्रतिरोध, इलेक्ट्रॉनिक प्रभाव प्रतिरोध और उच्च कोटिंग गुणवत्ता जैसे विभिन्न उत्कृष्ट गुण हैं। विशेषता. 99.5% बोरॉन स्पटरिंग लक्ष्य पाउडर धातुकर्म (उच्च तापमान और दबाव के तहत धातु पाउडर को दबाकर) या वैक्यूम आर्क पिघलने (वैक्यूम कक्ष में आर्क हीटिंग द्वारा पिघलना और फिर लक्ष्य पर जमना) के माध्यम से बोराइड सामग्री से बने होते हैं। इसका उपयोग हार्ड तैयार करने के लिए किया जा सकता है इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के लिए काटने के उपकरण या कार्यात्मक फिल्मों के लिए कोटिंग्स। यदि आवश्यक हो, तो हम अनुकूलित आवश्यकताओं को स्वीकार कर सकते हैं, कृपया बेझिझक हमसे ईमेल द्वारा संपर्क करें।
99.5% बोरोन स्पटरिंग लक्ष्य विशिष्टताएँ:
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सामग्री |
बोरोन(बी) |
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तकनीक |
गर्म आइसोस्टैटिक दबाव, अनाज शोधन, सिंटरिंग, फोर्जिंग, एनीलिंग |
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व्यास |
480 मिमी से कम या उसके बराबर |
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मोटाई |
1 मिमी से अधिक या उसके बराबर |
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घनत्व |
2.34 ग्राम/सेमी3 |
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गलनांक |
2300 डिग्री |
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आकार |
डिस्क, प्लेटें, कॉलम लक्ष्य, चरण लक्ष्य, कस्टम-निर्मित |
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सतह |
पॉलिश, क्षार सफाई, पीसना, ब्लैक ऑक्साइड, आदि। |
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प्रमाणीकरण |
आईएसओ 9001 |
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