नाइओबियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य

नाइओबियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य

FANMETAL PVD कोटिंग सिस्टम में प्रयुक्त Nb2O5 नाइओबियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य की आपूर्ति करता है। हम उच्च शुद्धता 99.9999 प्रतिशत, कीमती धातु लक्ष्य (एयू, एजी, पीटी), लक्ष्य बंधन सेवा, क्रूसिबल लाइनर (तांबा, मोलिब्डेनम, टंगस्टन इत्यादि), सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य के लिए अन्य धातु लक्ष्य और वाष्पीकरण सामग्री भी प्रदान करते हैं।

1. नाइओबियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य अनुप्रयोग

Nb2O5 फिल्म बनाने के लिए उपयोग किया जाता है, मुख्य रूप से ऑप्टिकल ग्लास, टच स्क्रीन, लो - ई ग्लास फिल्म सिस्टम के एआर फिल्म सिस्टम के लिए उपयोग किया जाता है।

2. उत्पाद रासायनिक संरचना और भौतिक गुण (भौतिक और रासायनिक गुण)

रासायनिक संरचना: Nb2Ox (x .)<>

प्रतिरोधकता (20 डिग्री): 0.35 से कम या उसके बराबर। से। मी

मोल्डिंग प्रक्रिया: थर्मल छिड़काव (HPS)

Density:>4.3g/cm3 (>97 प्रतिशत)

शुद्धता: 99.95 प्रतिशत से अधिक या उसके बराबर

नाइओबियम ऑक्साइड स्पटरिंग लक्ष्य चित्र:

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