धातु स्पटरिंग लक्ष्य मुख्य रूप से इलेक्ट्रॉनिक्स और सूचना उद्योगों में उपयोग किए जाते हैं, जैसे एकीकृत सर्किट, सूचना भंडारण, एलसीडी स्क्रीन, लेजर मेमोरी, इलेक्ट्रॉनिक नियंत्रण उपकरण इत्यादि। इन्हें ग्लास कोटिंग, पहनने-प्रतिरोधी उपकरण के क्षेत्र में भी व्यापक रूप से उपयोग किया जा सकता है विनिर्माण, और उच्च तापमान प्रसंस्करण उद्योग। , उच्च-स्तरीय सजावटी आपूर्ति और अन्य उद्योग। FANMETAL के पास अलौह धातु उत्पाद बनाने का कई वर्षों का अनुभव है और उसके पास उन्नत प्रसंस्करण उपकरण भी हैं। यह देश और विदेश में ग्राहकों को उच्च गुणवत्ता और लागत प्रभावी धातु या मिश्र धातु जैसे लक्ष्य उत्पाद प्रदान कर सकता हैनिकल लक्ष्य, क्रोमियम लक्ष्य, मोलिब्डेनम लक्ष्य, टंगस्टन लक्ष्य,टाइटेनियम एल्युमीनियम स्पटर लक्ष्य,वगैरह।
1.पवित्रता
सभी धातुओं के लिए, शुद्धता लक्ष्य सामग्री के मुख्य प्रदर्शन संकेतकों में से एक है। लक्ष्य सामग्री की शुद्धता का फिल्म के प्रदर्शन पर बहुत प्रभाव पड़ता है। हालाँकि, वास्तविक अनुप्रयोग उपकरण के आधार पर, लक्ष्य सामग्री के लिए शुद्धता की आवश्यकताएँ भी भिन्न होती हैं। उदाहरण के लिए, उच्च-परिशुद्धता वाले इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों में उच्च-शुद्धता कोटिंग लक्ष्य की आवश्यकता होती है।
2. अशुद्धता सामग्री
लक्ष्य प्रक्रियाओं की एक श्रृंखला के बाद, लक्ष्य ठोस में अशुद्धियाँ और छिद्रों में ऑक्सीजन और जल वाष्प जमा फिल्मों के लिए प्रदूषण के मुख्य स्रोत हैं। क्योंकि उनके उपयोग अलग-अलग हैं, अलग-अलग उपयोग के लक्ष्यों में अलग-अलग अशुद्धता सामग्री के लिए अलग-अलग आवश्यकताएं भी होती हैं। उदाहरण के लिए, अर्धचालकों में उपयोग किए जाने वाले वर्तमान शुद्ध एल्यूमीनियम और एल्यूमीनियम मिश्र धातु लक्ष्यों में क्षार धातु सामग्री और रेडियोधर्मी तत्व सामग्री के लिए विशेष आवश्यकताएं होती हैं।
3.घनत्व
लक्ष्य प्रौद्योगिकी प्रक्रिया में, लक्ष्य ठोस में छिद्रों को कम करने और थूक वाली फिल्म के प्रदर्शन में सुधार करने के लिए, आम तौर पर यह आवश्यक है कि लक्ष्य सामग्री में उच्च घनत्व होना चाहिए। क्योंकि लक्ष्य की मुख्य विशेषता घनत्व स्पटरिंग दर पर बहुत प्रभाव डालती है, और फिल्म के विद्युत और ऑप्टिकल गुणों को प्रभावित करती है। लक्ष्य घनत्व जितना अधिक होगा, फिल्म का प्रदर्शन उतना ही बेहतर होगा।
4. अनाज का आकार और अनाज का आकार वितरण
आमतौर पर लक्ष्य सामग्री में पॉलीक्रिस्टलाइन संरचना होती है, और दाने का आकार माइक्रोन से लेकर मिलीमीटर तक हो सकता है। समान लक्ष्य सामग्री के लिए, बारीक अनाज वाले लक्ष्य की स्पटरिंग दर मोटे अनाज वाले लक्ष्य की तुलना में तेज़ होती है; जबकि छोटे दाने के आकार के अंतर (समान वितरण) वाले लक्ष्य में स्पटरिंग द्वारा जमा की गई फिल्म का अधिक समान मोटाई का वितरण होगा।
