उच्च घनत्व वोल्फ्राम प्लेट

उच्च घनत्व वोल्फ्राम प्लेट विवरण

उच्च घनत्व वाले वोल्फ्राम प्लेट में उच्च लोचदार मापांक, कम तापीय विस्तार गुणांक, उच्च कठोरता, अच्छा उच्च तापमान स्थिरता, अच्छा पहनने का प्रतिरोध, अच्छा प्रभाव प्रतिरोध, उच्च तन्य शक्ति, उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध, उच्च विकिरण अवशोषण क्षमता और लंबी सेवा जीवन की विशेषताएं हैं। इसका उपयोग अक्सर उच्च तापमान प्रसंस्करण में हीट शील्ड, चिकित्सा क्षेत्र में विकिरण सुरक्षा उपकरण, एयरोस्पेस और ऑटोमोबाइल विनिर्माण क्षेत्रों में काउंटरवेट और इंजन भागों के निर्माण के लिए किया जाता है। उच्च घनत्व वाले वोल्फ्राम प्लेट को आम तौर पर पाउडर धातु विज्ञान और यांत्रिक प्रसंस्करण की एक श्रृंखला के माध्यम से टंगस्टन-निकल-लोहा या टंगस्टन-निकल-तांबा सामग्री से बनाया जाता है। इसका व्यापक रूप से वैक्यूम फर्नेस प्रसंस्करण, सैन्य रक्षा, एयरोस्पेस, जहाज काउंटरवेट, खेल उपकरण, ऑटोमोबाइल विनिर्माण, तेल ड्रिलिंग, चिकित्सा उपकरण, इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों और अन्य क्षेत्रों में उपयोग किया जा सकता है।

उच्च घनत्व वोल्फ्राम प्लेट विनिर्देश:

उच्च घनत्व वोल्फ्राम प्लेट चित्र

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