एक्स-रे मशीन के लिए टंगस्टन लक्ष्य
एक्स-रे मशीन विवरण के लिए टंगस्टन लक्ष्य
एक्स-रे उपकरण एक प्रकार का उपकरण है जिसका व्यापक रूप से चिकित्सा, वैज्ञानिक अनुसंधान और औद्योगिक क्षेत्रों में उपयोग किया जाता है। इसके मुख्य घटक लक्ष्य सामग्री और एनोड हैं, और टंगस्टन सामग्री सबसे अधिक इस्तेमाल की जाने वाली लक्ष्य सामग्री है। एक्स-रे मशीन के लिए टंगस्टन टारगेट का उपयोग निरीक्षण के लिए एक्स-रे उत्पन्न करने के लिए उच्च गति वाले इलेक्ट्रॉनों के प्रवाह को अवरुद्ध कर सकता है, और परिणामस्वरूप गर्मी विकिरण को बाहर निकाल सकता है। यह एक्स-रे प्रतिदीप्ति स्पेक्ट्रोमीटर की परिचालन दक्षता, इमेजिंग स्पष्टता और उपकरण स्थिरता में भी सुधार कर सकता है। . यदि आवश्यक हो, तो कृपया बेझिझक हमसे ईमेल द्वारा संपर्क करें।
एक्स-रे मशीन के लिए टंगस्टन लक्ष्य की विशेषताएं:
1. उच्च गलनांक: टंगस्टन लक्ष्य आसानी से पिघले बिना उच्च-ऊर्जा इलेक्ट्रॉन बीम बमबारी का सामना कर सकता है।
2. उच्च घनत्व और उच्च परमाणु गुणांक: उच्च ऊर्जा उत्पादन का उत्पादन कर सकते हैं और इमेजिंग गुणवत्ता में सुधार कर सकते हैं
3. कम गर्मी अपव्यय प्रदर्शन और अच्छी तापीय चालकता: अत्यधिक गर्मी के कारण उपकरण क्षति से बचने के लिए अतिरिक्त गर्मी को जल्दी से नष्ट किया जा सकता है
4. संक्षारण प्रतिरोध और अच्छा स्थायित्व: लंबे समय तक कठोर वातावरण में स्थिर रूप से काम कर सकता है
5. छोटा बैकस्कैटरिंग: बिखरने के प्रभाव को कम करने में मदद करता है और इमेजिंग स्पष्टता में सुधार करता है
एक्स-रे मशीन के लिए टंगस्टन लक्ष्य विशिष्टताएँ:
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श्रेणी |
W1,W2 |
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पवित्रता |
95% से अधिक या उसके बराबर |
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व्यास |
0.5मिमी-30मिमी |
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मोटाई |
1-10मिमी |
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गलनांक |
3410 डिग्री |
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घनत्व |
18.75 ग्राम/सेमी3 |
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सतह |
पॉलिश किया हुआ, मोड़ना समाप्त किया गया, ग्राउंड किया गया |
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डिलीवरी का समय |
20 दिन |
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मानक |
एएसटीएम, जीबी |
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प्रमाणीकरण |
आईएसओ 9001 |
एक्स-रे मशीन के लिए टंगस्टन लक्ष्य चित्र:


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