टाइटेनियम धातु लक्ष्य

टाइटेनियम धातु लक्ष्य विवरण

टाइटेनियम मेटल टारगेट मुख्य रूप से इलेक्ट्रॉन बीम कूलिंग स्मेल्टिंग विधि द्वारा निर्मित होता है। इसमें उच्च शुद्धता, उच्च विशिष्ट शक्ति, ऑक्सीजन मुक्त वातावरण में अच्छी क्रूरता, मजबूत वेल्डिंग और प्रसंस्करण प्रदर्शन, अच्छी लचीलापन, उत्कृष्ट तापीय चालकता, पहनने के प्रतिरोध और जैव अनुकूलता है। इसमें अच्छा प्रतिरोध, उच्च कोटिंग गुणवत्ता, लंबी सेवा जीवन और गैर-चुंबकीय गुण जैसे उत्कृष्ट गुण हैं। टाइटेनियम मेटल टारगेट का उपयोग मुख्य रूप से अर्धचालक, ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक्स और चुंबकीय सामग्री जैसे उच्च तकनीक क्षेत्रों में सामग्री के निर्माण के लिए किया जाता है। उदाहरण के लिए, अर्धचालक उद्योग में, इनका उपयोग फोटोडायोड, फोटोट्रांसिस्टर, फोटोरिसीवर और एमिटर जैसे इलेक्ट्रॉनिक घटकों के निर्माण में किया जाता है। इसके अलावा, टाइटेनियम मेटल टारगेट का उपयोग उच्च तापमान वाले मिश्र धातुओं, प्रवाहकीय सामग्री, रासायनिक उत्प्रेरक, एयरोस्पेस घटकों और चिकित्सा उपकरणों में भी व्यापक रूप से किया जाता है।

टाइटेनियम धातु लक्ष्य विशिष्टताएँ:

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