टाइटेनियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु स्पटरिंग लक्ष्य
टाइटेनियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु स्पटर लक्ष्य विवरण
साधारण पिघलने की प्रक्रिया की तुलना में, टाइटेनियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु स्पटर लक्ष्य आमतौर पर गर्म आइसोस्टैटिक दबाने की प्रक्रिया द्वारा निर्मित होता है, जिसमें छोटे अनाज का आकार और अधिक समान सूक्ष्म आंतरिक संरचना होती है, जो ग्राहकों को उच्च शुद्धता वाली पतली फिल्म कोटिंग और लगातार क्षरण दर प्राप्त करने में मदद कर सकती है। हमारी कंपनी द्वारा प्रदान किए गए टाइटेनियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु स्पटर लक्ष्य में उच्च गुणवत्ता, उच्च शुद्धता, समान संरचना, लंबी सेवा जीवन, अच्छा संक्षारण प्रतिरोध, उच्च तापीय चालकता और प्रतिस्पर्धी मूल्य के फायदे हैं।
उच्च गुणवत्ता वाले टाइटेनियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु स्पटर लक्ष्य व्यापक रूप से हार्डवेयर टूल कोटिंग, सजावटी कोटिंग, फ्लैट डिस्प्ले कोटिंग, पीवीडी और सीवीडी प्रसंस्करण, अर्धचालक घटकों और विभिन्न मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग मशीनों और आयन चढ़ाना मशीनों में उपयोग किए जाते हैं।
टाइटेनियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु स्पटर लक्ष्यविशेष विवरण:
श्रेणी | एलटीआई 25/75, एलटीआई 30/70, एलटीआई 40/60, आदि। |
तकनीक | हॉट आइसोस्टैटिक प्रेसिंग, ग्रेन रिफाइनमेंट, सिंटरिंग, फोर्जिंग, एनीलिंग |
पवित्रता | 99.5-99.9 प्रतिशत |
टाइप | प्लानर स्पटरिंग टारगेट, रोटरी स्पटरिंग टारगेट, एकर कैथोड। |
मोटाई | 3मिमी-30मिमी |
लंबाई | 10मिमी-2000मिमी |
गोलाकार व्यास | <= 1500 mm x 500 mm |
घनत्व | 3.4g/सेमी3 |
आकार | डिस्क, प्लेट, कॉलम टारगेट, स्टेप टारगेट, कस्टम-मेड |
सतह | पॉलिश, क्षार सफाई, पीस, ब्लैक ऑक्साइड, आदि। |
प्रमाणीकरण | आईएसओ 9001 |
टाइटेनियम एल्यूमीनियम मिश्र धातु स्पटर लक्ष्य चित्र:


सामान्य प्रश्न
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