बोरॉन बी टारगेट
अवलोकन
बोरॉन बी टारगेट सेमीकंडक्टर उद्योग में आमतौर पर इस्तेमाल किया जाने वाला धातु लक्ष्य है . इसकी शुद्धता आमतौर पर 99 . 99% (4n) से अधिक तक पहुंच सकती है, और अशुद्धियों की सामग्री (जैसे कि O, C, Fe, आदि}}}} विभिन्न परिदृश्यों की सटीक आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग, इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण, परमाणु परत जमाव (ALD), आदि . जैसी उच्च-अंत तैयारी प्रक्रियाओं के लिए। 20 से अधिक वर्षों के पेशेवर अनुभव के साथ एक गैर-फेरस धातु आपूर्तिकर्ता के रूप में, फैनमेटल ग्राहकों को अन्य उच्च शुद्धता और लागत प्रभावी धातु स्पटरिंग लक्ष्यों के साथ भी प्रदान कर सकता है, जैसेनिकेल स्पटरिंग लक्ष्य, ZR702 ज़िरकोनियम लक्ष्य, क्रोमियम लक्ष्य, आदि .
विशेषताएँ
उत्कृष्ट भौतिक गुण
इसमें एक उच्च पिघलने बिंदु, कम घनत्व, उच्च कठोरता, मजबूत न्यूट्रॉन अवशोषण क्षमता है, और अभी भी उच्च तापमान वाले वातावरण में अच्छी संरचनात्मक स्थिरता बनाए रख सकता है .
विद्युत और ऑप्टिकल गुण
ऑप्टिकल पारदर्शिता और चालकता बहुत अच्छी है, जिसका उपयोग न केवल उच्च गुणवत्ता वाले ऑप्टिकल पतली फिल्म कोटिंग्स बनाने के लिए किया जा सकता है, बल्कि सामग्री के प्रवाहकीय गुणों को समायोजित करने के लिए भी किया जा सकता है .
अच्छा रासायनिक गुण
यह आसानी से कमरे के तापमान पर पानी, ऑक्सीजन और एसिड के साथ प्रतिक्रिया नहीं करता है, और यह आसानी से रासायनिक प्रतिक्रियाओं से नहीं गुजरता है जब अन्य लक्ष्य सामग्री (जैसे धातु और ऑक्साइड) के साथ संयोजन में उपयोग किया जाता है, इस प्रकार स्थिर फिल्म प्रदर्शन . सुनिश्चित करता है
मजबूत मोल्डिंग प्रसंस्करण क्षमता
लक्ष्य आकार को उपकरण आवश्यकताओं के अनुसार अनुकूलित किया जा सकता है, रचना अत्यधिक नियंत्रणीय है, जो उच्च स्पटरिंग दक्षता सुनिश्चित कर सकती है, और इसे मजबूत आसंजन . के साथ एक पतली फिल्म बनाने के लिए विभिन्न प्रकार के सब्सट्रेट सामग्रियों के साथ जोड़ा जा सकता है।
विनिर्देश
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सामग्री |
बोरान (बी) |
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पवित्रता |
99.99%(4N) से अधिक या बराबर |
| व्यास | φ20MM-φ300 मिमी |
| मोटाई | 2 मिमी ~ 20 मिमी |
| घनत्व | 2.34g/cm3 |
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गलनांक |
2076 डिग्री |
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कठोरता |
2000-2500 hv |
| लोचदार मापांक | 400-450 gpa |
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सतह |
पॉलिश, क्षार सफाई, पीस, |
| मानक | एएसटीएम बी 853 |
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प्रमाणीकरण |
आईएसओ 9001 |
आवेदन
1. सेमीकंडक्टर फील्ड
ट्रांजिस्टर और डायोड जैसे सेमीकंडक्टर उपकरणों के निर्माण में, बोरॉन बी लक्ष्य का उपयोग डोपेंट प्रदान करने के लिए किया जाता है, जो सिलिकॉन क्रिस्टल जैसे अर्धचालक सामग्री के विद्युत गुणों को सटीक रूप से नियंत्रित कर सकता है, जिससे डिवाइस के प्रवाहकीय गुणों का सटीक नियंत्रण प्राप्त होता है .}
डिवाइस विश्वसनीयता में सुधार करने के लिए बोरान के प्रसार अवरोध गुणों का उपयोग करते हुए, बोरोन-सिलिकॉन ऑक्साइड पतली फिल्मों की तैयारी डिवाइस विश्वसनीयता . को बेहतर बनाने के लिए, सेमीकंडक्टर उपकरणों की परतों या पारिश्रमिक परतों के रूप में।
2. चुंबकीय रिकॉर्डिंग क्षेत्र
उच्च-प्रदर्शन चुंबकीय फिल्मों की तैयारी: उच्च भंडारण घनत्व, कम शोर, और अच्छे थर्मल स्थिरता . के साथ चुंबकीय रिकॉर्डिंग फिल्मों के साथ चुंबकीय रिकॉर्डिंग फिल्मों को तैयार करने के लिए बोरॉन लक्ष्यों का उपयोग किया जा सकता है, चुंबकीय रिकॉर्डिंग मीडिया में, बोरान के अलावा, बड़ी क्षमता, उच्च गति, और उच्च विश्वसनीयता {2} के लिए आधुनिक चुंबकीय भंडारण प्रौद्योगिकी की आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए चुंबकीय प्रदर्शन मापदंडों को समायोजित कर सकता है {2}
3. एयरोस्पेस फील्ड
उच्च-शुद्धता वाले बोरान लक्ष्यों द्वारा तैयार बोराइड कोटिंग में एक अत्यधिक उच्च पिघलने बिंदु और थर्मल शॉक प्रतिरोध होता है, और इसका उपयोग रॉकेट नलिका और टरबाइन ब्लेड सतह कोटिंग्स के लिए किया जा सकता है, जो अत्यधिक उच्च तापमान और गैस संक्षारण . का विरोध करते हुए घटकों के वजन को कम करने में मदद करता है . .
4. हार्ड वियर-रेसिस्टेंट कोटिंग
बोरॉन बी लक्ष्य उपकरण, मोल्ड, यांत्रिक भागों, आदि की सतहों पर हार्ड कोटिंग्स बना सकता है, ., भौतिक वाष्प जमाव या रासायनिक वाष्प जमाव जैसे प्रक्रियाओं के माध्यम से {.} इस कोटिंग में उच्च कठोरता, उच्च पहनने के प्रतिरोध की विशेषताएं हैं, जो कि सेवा जीवन और कम फ्रिक्शन गुणों को कम कर सकती है।
प्रक्रिया
①Physical शुद्धि पहले एक कम अशुद्धता सामग्री सुनिश्चित करने के लिए किया जाता है, जो उच्च प्रदर्शन वाली फिल्मों के बयान के लिए अनुकूल है .
② उच्च शुद्धता वाले बोरान पाउडर को ठंड दबाने वाले सिंटरिंग या हॉट आइसोस्टैटिक दबाव के अधीन किया जाता है, और हरे शरीर को समान रूप से दबाया जाता है, और घनत्व 99%से अधिक . तक पहुंच सकता है
③diamond टूल कटिंग और पीस, और पॉलिशिंग का उपयोग आयामी सटीकता में सुधार करने और सतह खुरदरापन को कम करने के लिए किया जाता है .
मोल्डिंग प्रक्रिया के दौरान आंतरिक तनाव को खत्म करने और क्रिस्टल संरचना . को स्थिर करने के लिए ④annealing उपचार एक वैक्यूम वातावरण में किया जाता है।
⑤ अंतिम गुणवत्ता नियंत्रण ISO9001 मानकों को पूरा करता है और ग्राहकों की कठोर आवश्यकताओं को पूरा करता है .
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