निओबियम टारगेट
निओबियम लक्ष्य विवरण
सामग्री चयन और प्रसंस्करण
हम वैक्यूम इंडक्शन पिघलने, हॉट रोलिंग, फोर्जिंग, कटिंग, एनीलिंग और अन्य प्रक्रियाओं के माध्यम से शुद्ध नाइओबियम या नाइओबियम मिश्र धातुओं का उपयोग करते हैं। फोर्जिंग के बाद, सतह की अशुद्धियों और ऑक्साइड परतों को हटाने के लिए नाइओबियम सामग्री को अचार या पॉलिश करने की आवश्यकता होती है। अंत में, उत्पादित नाइओबियम डिस्क की गुणवत्ता का निरीक्षण किया जाना चाहिए, जिसमें आकार, शुद्धता, अनाज का आकार और अन्य संकेतक शामिल हैं ताकि यह सुनिश्चित हो सके कि उत्पाद उपयोग की आवश्यकताओं को पूरा करता है।
विशेषताएँ
- उच्च पिघलने बिंदु: नाइओबियम में 2468 डिग्री तक पिघलने का बिंदु है, जो इसे उच्च तापमान वातावरण में स्थिर प्रदर्शन बनाए रखने की अनुमति देता है।
- High शुद्धता और उच्च घनत्व: यह चिकनी सतह, उच्च आसंजन और उत्कृष्ट प्रदर्शन के साथ नायबियम फिल्मों को स्पटर कर सकता है, जो इसकी स्पटरिंग दर और फिल्म की गुणवत्ता में सुधार करने में मदद करता है।
- उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध: नाइओबियम में अच्छा ऑक्सीकरण प्रतिरोध और संक्षारण प्रतिरोध होता है, और चरम रासायनिक वातावरण में स्थिर रह सकता है।
- अच्छी विद्युत चालकता: नाइओबियम एक उत्कृष्ट प्रवाहकीय सामग्री है, जो नाइओबियम लक्ष्यों को उच्च-सटीक इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण और आयन बीम नक़्क़ाशी की आवश्यकता वाले अनुप्रयोगों के लिए उपयुक्त बनाता है।
- उच्च सतह खत्म: यह स्पटरिंग के दौरान फिल्म की एकरूपता और स्थिरता सुनिश्चित कर सकता है
- विशेष सुपरकंडक्टिंग गुण, विभिन्न उच्च तापमान वाले सुपरकंडक्टिंग फिल्मों की तैयारी के लिए उपयुक्त
एनबी लक्ष्य अनुप्रयोग
1. सेमिकंडक्टर उद्योग
इसकी उत्कृष्ट वाष्पीकरण दर और स्थिरता के कारण, नाइओबियम एनबी राउंड टारगेट प्लेट का व्यापक रूप से इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण प्रौद्योगिकी में पतली फिल्म सामग्री जैसे धातुओं, ऑक्साइड और अर्धचालक सामग्री को जमा करने के लिए उपयोग किया जाता है। ये पतली फिल्म सामग्री उच्च-प्रदर्शन एकीकृत सर्किट और चिप्स के निर्माण के लिए प्रमुख घटक हैं, और उपकरणों के प्रदर्शन और विश्वसनीयता में सुधार के लिए आवश्यक हैं।
2.optical और optoelectronic उपकरण
मुख्य रूप से रंग टीएफटी एलसीडी टैबलेट, ऑप्टिकल लेंस, इलेक्ट्रॉनिक इमेजिंग, सूचना भंडारण, ग्लास कोटिंग्स, आदि के लिए उपयोग किया जाता है, इसके अलावा, इसका उपयोग सौर कोशिकाओं के उत्पादन में भी किया जाता है ताकि वे नोबियम फिल्मों को वाष्पित करके कोशिकाओं की दक्षता और स्थायित्व में सुधार कर सकें।
3.aerospace
उच्च तापमान और जंग से विमान की सतहों की रक्षा के लिए प्रमुख उपकरणों के लिए उच्च तापमान मिश्र धातु कोटिंग्स का निर्माण करने के लिए उपयोग किया जाता है।
4. न्यूक्लियर उद्योग
परमाणु रिएक्टरों के प्रमुख घटकों का निर्माण करने के लिए उपयोग किया जाता है, जैसे कि ईंधन रॉड क्लैडिंग, जिसमें उत्कृष्ट विकिरण और संक्षारण प्रतिरोध की आवश्यकता होती है।
5.Medical क्षेत्र
नाइओबियम के अच्छे बायोकंपैटिबिलिटी और संक्षारण प्रतिरोध के कारण, नाइओबियम फिल्मों का उपयोग बायोसेंसर और सर्जिकल प्रत्यारोपण में किया जा सकता है।
फैनमेटल उच्च गुणवत्ता वाले धातु लक्ष्यों का उत्पादन कर सकता है जैसेक्रोमियम लक्ष्य, ज़िरकोनियम लक्ष्य, टाइटेनियम मिश्र धातु लक्ष्य, टंगस्टन लक्ष्यऔरनिकेल लक्ष्यग्राहकों के लिए। यह ग्राहकों की विभिन्न आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए फ्लैट लक्ष्यों, घूर्णन लक्ष्यों और विशेष आकार के लक्ष्यों की अनुकूलित सेवाएं भी प्रदान कर सकता है।
नीबियम लक्ष्य पैरामीटर
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सामग्री |
नायब |
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पवित्रता |
>=99। 95% या 99.99% |
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तकनीक |
हॉट रोल्ड, कोल्ड रोल्ड, कटिंग, फॉर्मिंग, मशीनिंग, पीस, सिन्टरिंग |
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व्यास |
Φ20 मिमी -800 मिमी |
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घनत्व |
8.57g/cm3 |
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मोटाई |
1 मिमी से अधिक या बराबर |
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सतह |
क्षारीय सफाई, पॉलिश, उज्ज्वल |
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डिलीवरी का समय |
20 दिन |
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मानक |
एएसटीएम, एएमएस, जीबी |
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प्रमाणीकरण |
आईएसओ 9001 |
Niobium लक्ष्य चित्र


उत्पाद योग्यता

उपवास
प्रश्न: क्या आप निर्माता या ट्रेडिंग कंपनी हैं?
A: हम पेशेवर प्रौद्योगिकी और कई वर्षों के उत्पादन अनुभव के साथ एक निर्माता हैं, और ग्राहकों को विभिन्न उच्च गुणवत्ता वाले उत्पादों के साथ प्रदान कर सकते हैं।
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