सोने Sputtering लक्ष्य

FANMETAL PVD कोटिंग प्रणाली में इस्तेमाल किया कीमती धातु sputtering लक्ष्य की आपूर्ति. इस तरह के रूप में Au सोने sputtering लक्ष्य, एजी चांदी sputtering लक्ष्य, पीटी प्लैटिनम sputtering लक्ष्य, Ir इरिडियम sputtering लक्ष्य, रू ruthenium sputtering लक्ष्य .

सोने Sputtering कीमती धातुओं और तारों और अर्धचालक उपकरणों की पतली फिल्मों के लिए उनके मिश्र धातुओं के लक्ष्य, रिकॉर्डिंग मीडिया प्रदर्शन उपकरणों, आदि, परिष्कृत, पिघलने फोर्जिंग, रोलिंग प्रसंस्करण, या पाउडर धातु विज्ञान द्वारा निर्मित. Au, Pt, Pd, Ag लक्ष्यों का उपयोग एकीकृत सर्किट और बड़े पैमाने पर एकीकृत सर्किट के लिए किया जाता है, और CoCrPt, CoPt और CoPd जैसे मिश्र धातु लक्ष्यों का उपयोग चुंबकीय रिकॉर्डिंग के लिए किया जाता है

उच्च शुद्धता और उच्च घनत्व sputtering लक्ष्यों में शामिल हैं:

Sputtering लक्ष्य (शुद्धता: 99.9%-99.999%)

नोबल धातु लक्ष्य:

प्लैटिनम , Sliver, गोल्ड नोबल धातु sputtering लक्ष्य

गोल्ड Sputtering लक्ष्य चित्र:

उच्च शुद्धता कीमती धातु sputtering लक्ष्य के प्रकार:

सोने sputtering लक्ष्य (Au) शुद्धता: 99.99-99.999%

चांदी Sputtering लक्ष्य (एजी) शुद्धता: 99.99%

इरिडियम sputtering लक्ष्य (Ir) शुद्धता: 99.95%

पैलेडियम sputtering लक्ष्य (पीडी) शुद्धता: 99.95%

प्लैटिनम sputtering लक्ष्य (पीटी) शुद्धता: 99.99%

रोडियम sputtering लक्ष्य (Rh) शुद्धता: 99.95%

रूथेनियम sputtering लक्ष्य (आरयू) शुद्धता: 99.9%

कॉपर-सिल्वर sputtering लक्ष्य (Cu / Ag) शुद्धता: 99.9%

गोल्ड-कॉपर sputtering लक्ष्य (Au / Cu) शुद्धता: 99.9%

गोल्ड-पैलेडियम sputtering लक्ष्य (Au / Pd) शुद्धता: 99.9%

गोल्ड-टिन sputtering लक्ष्य (Au / Sn) शुद्धता: 99.9%

सिल्वर पैलेडियम Sputtering लक्ष्य (एजी / पीडी) शुद्धता: 99.9%

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