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निकल धातु स्पटरिंग लक्ष्य
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निकल धातु स्पटरिंग लक्ष्य

निकल धातु स्पटरिंग लक्ष्य

निकल धातु स्पटरिंग लक्ष्य विवरण उद्योग में, निकेल का उपयोग आमतौर पर मिश्र धातु तैयार करने, बैटरी उत्पादन और उत्प्रेरक के रूप में किया जाता है। विशेष रूप से लक्ष्य सामग्री के क्षेत्र में, निकल का उपयोग इसके उत्कृष्ट भौतिक और रासायनिक गुणों के कारण व्यापक रूप से किया जाता है। निकल धातु स्पटरिंग लक्ष्य...
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Product Details ofनिकल धातु स्पटरिंग लक्ष्य

निकेल मेटल स्पटरिंग लक्ष्य विवरण

उद्योग में, निकेल का उपयोग आमतौर पर मिश्र धातु तैयार करने, बैटरी उत्पादन और उत्प्रेरक के रूप में किया जाता है। विशेष रूप से लक्ष्य सामग्री के क्षेत्र में, निकल का उपयोग इसके उत्कृष्ट भौतिक और रासायनिक गुणों के कारण व्यापक रूप से किया जाता है। निकल धातु स्पटरिंग लक्ष्य मुख्य रूप से स्पटरिंग, इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण, गर्म दबाव या रासायनिक वाष्प जमाव तकनीक के माध्यम से उच्च शुद्धता वाली निकल सामग्री से बने होते हैं। उन्हें ग्राहकों की वास्तविक जरूरतों के अनुसार चुना और संयोजित किया जा सकता है। निकेल मेटल स्पटरिंग टारगेट में अच्छे प्रसंस्करण गुण, मजबूत संक्षारण प्रतिरोध, अच्छी तापीय और विद्युत चालकता, विशिष्ट विद्युत और चुंबकीय गुण, समान सूक्ष्म संरचना, प्रभाव प्रतिरोध, पहनने के प्रतिरोध, लंबी सेवा जीवन आदि हैं। उत्कृष्ट विशेषताएं, यह व्यापक अनुप्रयोग के लिए उपयुक्त है। डेटा भंडारण उद्योग, इलेक्ट्रॉनिक्स, सेमीकंडक्टर उद्योग, ऑप्टिकल संचार, फ्लैट डिस्प्ले उद्योग, ग्लास कोटिंग (ऑटोमोबाइल, फर्नीचर और निर्माण) और अन्य क्षेत्र।

निकेल मेटल स्पटरिंग लक्ष्य विशिष्टताएँ:

श्रेणी

निकेल 200,201

तकनीक

गर्म आइसोस्टैटिक दबाव, अनाज शोधन, सिंटरिंग, फोर्जिंग, एनीलिंग

पवित्रता

99.999%

बहरी घेरा

Φ101.6-3.175मिमी

घनत्व

8.9 ग्राम/सेमी3

आकार

गोल

सतह

चमकाने

डिलीवरी का समय

25 दिन

मानक

एएसटीएम बी161, एएसटीएम बी622

प्रमाणीकरण

आईएसओ 9001

निकल धातु स्पटरिंग लक्ष्य चित्र:

Nickel Sputtering Target

Nickel Target

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