उच्च शुद्धता 4N निकल स्पटर लक्ष्य

उच्च शुद्धता 4एन निकेल स्पटर लक्ष्य विवरण

उच्च शुद्धता 4एन निकल स्पटर टारगेट पाउडर धातु विज्ञान और फोर्जिंग पॉलिशिंग के बाद उच्च शुद्धता वाली निकल सामग्री से बना है। इसे स्पटरिंग, इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण, रासायनिक वाष्प जमाव या मैग्नेट्रोन स्पटरिंग द्वारा तैयार किया जा सकता है। अच्छी शुद्धता, एकरूपता और मजबूत चालकता वाली निकल फिल्मों का उपयोग सेमीकंडक्टर निर्माण और एकीकृत सर्किट में किया जाता है। उच्च शुद्धता 4एन निकल स्पटर टारगेट में उच्च शक्ति और कठोरता, उच्च पिघलने बिंदु, अच्छा लचीलापन, उच्च सतह खत्म, संक्षारण प्रतिरोध, प्रभाव प्रतिरोध, उच्च विद्युत और तापीय चालकता, पहनने के प्रतिरोध, चुंबकीय स्थिरता आदि जैसे उत्कृष्ट गुण हैं। यह भी हो सकता है एयरोस्पेस, सजावट उद्योग, रासायनिक मूल्य, ऊर्जा उद्योग, ऑटोमोबाइल विनिर्माण और धातुकर्म प्रसंस्करण उपकरण और अन्य क्षेत्रों में पहनने के लिए प्रतिरोधी, जंग-रोधी, उच्च तापमान-प्रतिरोधी धातु फिल्मों की आवश्यकता होती है।

उच्च शुद्धता 4N निकल स्पटर लक्ष्य विशिष्टताएँ:

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