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उच्च शुद्धता 4एन निकल स्पटर लक्ष्य, 99.99% निकल स्पटरिंग लक्ष्य, सिंगापुर के लिए निकेल नी स्पटरिंग लक्ष्य

Apr 02, 2024

लक्ष्य वैज्ञानिक प्रयोगों, औद्योगिक प्रसंस्करण या अन्य तकनीकी अनुप्रयोगों में उपयोग की जाने वाली सामग्री को संदर्भित करता है। इसका उपयोग मुख्य रूप से कण प्रवाह, किरणों या विद्युत चुम्बकीय तरंगों की दिशा और गुणों को अवशोषित करने, प्रतिबिंबित करने या बदलने के लिए किया जाता है। इसकी शुद्धता कोटिंग की गुणवत्ता निर्धारित करती है। अप्रैल की शुरुआत में, सिंगापुर में ग्राहकों को हाई प्योरिटी 4एन निकेल स्पटर टारगेट प्राप्त हुआ जिसे हमने मार्च में शिप किया था और वे हमारे उत्पाद की गुणवत्ता, कीमत और प्रसंस्करण तकनीक से संतुष्ट थे, और आकार विनिर्देशों के लिए उनकी विशेष आवश्यकताओं को भी पूरा करते थे। उन्होंने यह भी व्यक्त किया कि यदि अवसर मिले तो वह अधिक व्यावसायिक अवसर बढ़ाने के लिए हमारे साथ तकनीकी आदान-प्रदान करने के इच्छुक हैं। FANMETAL अन्य धातु मिश्र धातु लक्ष्य उत्पाद प्रदान कर सकता है जैसे ज़िरकोनियम 702 प्लानर टारगेट,बोरोन गोल स्पटर लक्ष्यऔरएक्स-रे मशीन के लिए टंगस्टन लक्ष्य, और एक पेशेवर संगठन की गुणवत्ता निरीक्षण गारंटी है, इसलिए आप विश्वास के साथ हमारे उत्पादों को ऑर्डर कर सकते हैं।
99.99% निकल स्पटरिंग लक्ष्य पाउडर धातु विज्ञान और फोर्जिंग पॉलिशिंग के बाद उच्च शुद्धता वाली निकल सामग्री से बने होते हैं। उच्च शुद्धता स्पटरिंग, इलेक्ट्रॉन बीम वाष्पीकरण, रासायनिक वाष्प जमाव या मैग्नेट्रोन स्पटरिंग द्वारा तैयार की जा सकती है। अच्छी एकरूपता और मजबूत चालकता वाली निकल फिल्मों का उपयोग इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों की चालकता दर और सेवा जीवन में सुधार के लिए अर्धचालक निर्माण और एकीकृत सर्किट में किया जा सकता है। निकल नी स्पटरिंग लक्ष्य में उच्च शक्ति और कठोरता, उच्च पिघलने बिंदु, अच्छा लचीलापन, उच्च सतह खत्म, संक्षारण प्रतिरोध, प्रभाव प्रतिरोध, उच्च विद्युत और तापीय चालकता, पहनने के प्रतिरोध और चुंबकीय स्थिरता जैसे उत्कृष्ट गुण हैं। इनका उपयोग एयरोस्पेस, सजावट उद्योगों, रासायनिक कीमतों, ऊर्जा उद्योग, ऑटोमोबाइल विनिर्माण और धातुकर्म प्रसंस्करण उपकरण और अन्य क्षेत्रों में भी किया जा सकता है, जो पहनने के लिए प्रतिरोधी, जंग-रोधी और उच्च तापमान-प्रतिरोधी धातु फिल्मों की आवश्यकता होती है।

Nickel Ni Sputtering Target

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